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當前位置:上海谷研試劑有限公司>>公司動態(tài)>>非接觸式位置測量裝置研制成功
近日,由*長春光學精密機械與物理研究所研制的非接觸式位置測量裝置,在長春正式通過專家鑒定。鑒定委員會認為:該裝置各項技術指標達到了合同書的要求,提出了多個創(chuàng)新點,其成果*了國內(nèi)外利用線陣CCD實現(xiàn)同時測量物體四維坐標量的空白,技術指標達到水平。
據(jù)悉,長春光機所科研人員從2002年開始進行非接觸式位置測量裝置的研制工作。他們歷經(jīng)艱苦的方案設計、技術攻關,解決了原理設計、大視場光學畸變校正、強光補償?shù)燃夹g難題,成功研制出了使用一個線陣CCD,由力矩電機帶動其轉(zhuǎn)動,掃描被測目標,結合三角法,同時測量出被測物體四維坐標的非接觸式位置測量裝置。這一裝置可以完成對被測物體3個方向坐標(X,Y,Z)和水平擺角a的測量,并具有測量范圍大、測量精度高、測量時間短、抗*力強、自動化測量、無須事先建立坐標系等優(yōu)點。
據(jù)悉,該裝置在國防、交通、礦山、城市建設等領域有廣泛的應用前景,不僅提高了我國測量設備的競爭力,也為相關技術領域的發(fā)展提供了一種新的技術保障。
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