- 儀器簡介：
- 微區(qū)X射線熒光光譜分析技術是對不均勻樣品、不規(guī)則樣品、甚至小件樣品和包裹物進行高靈敏度的、非破壞性的元素分析的*方法。采用多導毛細管聚焦鏡將激發(fā)光聚焦到非常小的區(qū)域，以獲得的空間分辨率，進行快速分析。任何類型的樣品都可以通過簡單的樣品制備甚至不制備直接進行分析。
技術參數：
技術參數
樣品類型 固體、顆粒、液體、多層膜
樣品室尺寸 W×D×H：600×350×260mm
樣品臺尺寸 W×D：330×170mm
測量氣氛 大氣/真空，在100秒內準備就緒
樣品移動 zui大移動范圍 W×D×H：270×240×120mm
移動速度 渦輪增速樣品臺zui大移動速度可達100mm/s
激發(fā) 配多導毛細管聚焦鏡的高強度X射線光管
選項：可同時使用不同靶材的雙光管
X射線光管參數
靶材 Rh，可選靶材：Mo，Ag，Cu，W
電壓 50kV,800μA
光斑大小 小于30μm（對于Mo-K）
濾光片 根據用戶要求，zui多6塊濾光片
探測器 XFlash?硅漂移探測器
選項：可zui多同時使用3個探測器
探測器參數
有效面積 10mm2，選項：30mm2
能量分辨率 計數率250,000cps時分別優(yōu)于125eV、135eV
儀器控制 *的PC機，Windows XP或Vista操作系統
儀器控制功能 光管參數、濾光片、光學顯微鏡、樣品照明和樣品定位的全面控制
光譜評估 譜峰識別、人工和自動背景校正、峰面積計算、對于塊狀樣品和多層膜樣品基于標樣和無標樣模式的定量分析
分布分析 “飛行中”測量模式，HyperMap軟件功能
結果顯示 定量結果、統計計算、元素分布（線掃描、面分布）
電源要求 110-240V（1P），50/60Hz
尺寸（寬×深×高） 815×680×580mm，130kg
質量和安全 DIN EN ISO 9001:2000認證, CE認證
*輻射防護系統；輻射劑量＜1μSv/h
主要特點：- M4 TORNADO采用了全新的技術，為各種用戶提供了*的分析性能和非常方便的操控性。
- 采用多導毛細管聚焦鏡，照射光斑zui小，空間分辨率zui高。
- 渦輪增速X-Y-Z樣品臺，借助放大倍數可變的攝像系統獲得高品質的樣品影像，可在“飛行中”進行元素分布分析。
高強度的X射線光管與多導毛細管聚焦鏡相結合，確保在非常小的照射區(qū)域內獲得非常高的激發(fā)強度。采用濾光片和可以同時使用的配有不同靶材的雙光管，可以根據不同的分析要求，優(yōu)化激發(fā)光譜。 - 使用XFlash?探測器超高速地獲取樣品圖譜，另外，使用多個探測器可以進一步提高測量速度。
- 采用無標樣分析法精確定量分析塊狀樣品，精確分析多層膜樣品。
可抽真空的樣品室配有自動門，大尺寸的樣品室可以放置各種尺寸的樣品。通過兩個放大倍數可變的攝像系統觀察樣品（整體觀察和分析區(qū)域的細致觀察），便捷進樣功能和自動對焦功能可以進行快速而精確的定位。通過用戶編輯的X-Y-Z樣品臺運行程序可實現重復測量。
