循環(huán)水全程物化綜合水處理器的詳細(xì)描述：
綜述 FLK-ZH系列全程綜合水處理器是針對(duì)各種循環(huán)水系統(tǒng)中普遍存在的四大問(wèn)題：腐蝕、結(jié)垢、菌藻、水質(zhì)惡化而研制的綜合型水處理器，由單臺(tái)設(shè)備代替需要多臺(tái)設(shè)備才能完成的處理過(guò)程，從而取代了傳統(tǒng)的處理方式。具有對(duì)水質(zhì)綜合優(yōu)化處理，防垢除垢、防腐阻銹、殺菌滅藻、超凈過(guò)濾功能。機(jī)電一體化的設(shè)計(jì)、純物理方式處理，無(wú)需化學(xué)藥劑，阻力小、流量大，而且運(yùn)行費(fèi)用極低，操作簡(jiǎn)單，維護(hù)方便，是各種水系統(tǒng)之*選擇。 FLK-ZH全程綜合水處理器主要由優(yōu)質(zhì)碳鋼筒體、特殊結(jié)構(gòu)的不銹鋼濾網(wǎng)、高頻電磁場(chǎng)發(fā)生器及排污裝置等組成，自動(dòng)型（Z型）在手動(dòng)型基礎(chǔ)上增設(shè)了控制單元、傳感器和電動(dòng)排污裝置，可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化運(yùn)行，無(wú)需人工干預(yù)。自動(dòng)清洗型（ZS型）在自動(dòng)型的基礎(chǔ)上加裝有自清洗裝置，能夠自行清洗水處理器過(guò)濾單元，使得處理器的功能更加完善。 除垢防垢 由高頻發(fā)生器產(chǎn)生高頻電磁場(chǎng)對(duì)水進(jìn)行處理，使原有的大締合體狀態(tài)水的結(jié)合鍵被深度打斷，離解成活性很強(qiáng)的單分子或小締合體狀態(tài)的水，從而改變了水的物理結(jié)構(gòu)與特性，增強(qiáng)了水分子的極性，增大了水分子的偶極矩，提高了水分子對(duì)鈣鎂離子、碳酸根離子等成垢組份的水合能力，起到防止水垢形成的作用。 高頻電磁場(chǎng)水應(yīng)用于防垢，是由于其存在大量的“離子締合體”或“顆粒締合體”，在水溶液中提供了大量的結(jié)晶核心。結(jié)晶核心越多，生成的結(jié)晶數(shù)量也越多，水垢結(jié)晶的線性尺寸就越小。此外，由于單個(gè)或雙氫聯(lián)結(jié)的水分子數(shù)量增多，水分子的活動(dòng)更“自由”，它占據(jù)水溶液的其它空隙，象形成極薄的膜一樣，因而阻礙晶體生長(zhǎng)，促使水垢結(jié)晶線性尺寸減小，使水垢呈松軟的細(xì)小顆粒，隨排污水排除。 防腐阻銹 氧化腐蝕和垢下原電池腐蝕是水系統(tǒng)管道及設(shè)備腐蝕和生銹的主要原因，而在高頻電磁場(chǎng)的作用下，水垢得以控制和去除，溶解氧與水分子結(jié)合不易析出，從而抑制氧化腐蝕和垢下原電池腐蝕的發(fā)生，從而起到良好的防腐阻銹的作用。 殺菌滅藻電場(chǎng)處理水過(guò)程中，溶解氧得到活化，產(chǎn)生O2-、•OH、H2O2以及1O2等活性氧（O2-是超氧陰離子自由基，•OH是羥基自由基，H2O2是過(guò)氧化氫，1O2是單線態(tài)氧）?；钚匝踝杂苫軐?duì)微生物機(jī)體產(chǎn)生殺滅作用，是造成微生物衰老的zui主要原因。O2-可損傷重要的生物大分子，造成微生物機(jī)體損傷；O2-增加微生物集體膜脂過(guò)氧化，加速衰老。因而達(dá)到殺菌滅藻的效果。 超凈過(guò)濾 FLK-ZH全程綜合水處理器內(nèi)置特殊結(jié)構(gòu)的不銹鋼濾筒，在滿(mǎn)足較大流量的同時(shí)，能夠保證更高的過(guò)濾精度要求，濾筒的特殊結(jié)構(gòu)能夠在設(shè)備反沖洗排污時(shí)，使反洗水流產(chǎn)生更強(qiáng)的噴射效果，將附著在濾筒內(nèi)壁的雜質(zhì)更為*的沖洗掉，經(jīng)排污閥排除在本體外。
循環(huán)水全程物化綜合水處理器應(yīng)用范圍
1、空調(diào)、制冷循環(huán)水系統(tǒng)，熱交換系統(tǒng)及冷卻水系統(tǒng)，采暖、地源熱泵、游泳池用水、熱水鍋爐、自來(lái)水、地表水、地下水等。
2、石油、化工、鋼鐵、造紙、發(fā)電、橡膠、及其它工礦企業(yè)的冷卻水、循環(huán)水、源水及污水處理等。技術(shù)參數(shù) ■工作電壓：380V/50Hz■防垢、除垢率：≥95% ■殺菌率：≥95%■滅藻率：≥95% ■過(guò)濾精度：可根據(jù)用戶(hù)需求選擇 ■適用水溫：≤99℃■工作壓力：1.0MPa(特殊可定制）■輸出功率：50―1500W■清洗方式：電動(dòng)刷式■控制方式：壓差、時(shí)間、手
