PEV-1壓電閥是為了適用于要求精確控制氣體流量的場合，主要應用領域包括：磁控濺射，光學鍍膜，太陽能電池，ITO，等離子體刻蝕等。
PEV-1壓電閥主要技術特點:
1、控制模式：開環(huán)控制和閉環(huán)控制
2、易于集成：可與國產(chǎn)自動壓強控制儀配套使用，來實現(xiàn)閉環(huán)控制，達到穩(wěn)定壓強的目的，性價比高，同時亦可選擇進口壓強控制儀
3、響應時間快
4、性能穩(wěn)定，壓電陶瓷片壽命長
5、無機械連接件，無伺服馬達，無磨損，在斷電的情況下可實現(xiàn)自動關閉的特點
技術參數(shù)：
流量：0¬—500 scmm
響應時間：2 毫秒
漏率：1*10-9sml/sec
電壓：0—100VCD
溫度范圍:10攝氏度至60攝氏度
zui大入口壓強:50PSI
利方達(香港)有限公司于2002年創(chuàng)建。公司目前集中了一批多年從事真空鍍膜專業(yè)的技術人員和經(jīng)驗豐富的市場銷售人員,現(xiàn)已經(jīng)發(fā)展成為由利方達(香港)有限公司,深圳市利方達科技有限公司,利方達科技北京辦事處組成的，集真空產(chǎn)品研發(fā),生產(chǎn)及貿易以及維修服務為一體的企業(yè)集團 。 我們的業(yè)務專長于真空及鍍膜設備領域的代理銷售業(yè)務，致力于把世界上*的技術和設備引進中國.憑借多年的真空專業(yè)技術積累, 雄厚的技術力量和真誠的服務, 我們得到了業(yè)界的眾口稱贊,擁有了大量的客戶群體, 產(chǎn)品廣泛用于真空,光學、電子、半導體、平板顯示等相關領域.
射頻電源、中頻電源、直流電源,氣體質量流量計、質量流量控制器,光學膜厚控制儀,殘余氣體分析儀
pev-1壓電閥 產(chǎn)品信息
關鍵詞：電池
