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渦輪分子泵應(yīng)用于磁控濺射系統(tǒng)

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公司名稱伯東企業(yè)（上海）有限公司深圳辦事處
品牌
型號
所在地深圳市
廠商性質(zhì)其他
更新時間2025/5/28 13:21:47
訪問次數(shù)21

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伯東公司成立于1953 年，范圍內(nèi)有一千七百名員工。伯東企業(yè)(上海)有限公司()主要從事半導(dǎo)體設(shè)備、電子零部件加工、銷售及相關(guān)服務(wù)工作，集團年營業(yè)額約為100億人民幣。伯東公司在國內(nèi)主要城市：北京、蘇州、廣州、深圳、成都及廈門設(shè)有營業(yè)據(jù)點。上海伯東真空產(chǎn)品事業(yè)部秉承為廣大中國客戶提供的真空產(chǎn)品、推動中國真空工藝發(fā)展、承擔(dān)企業(yè)社會責(zé)任為經(jīng)營理念，已累計為超過10,000家企業(yè)提供真空服務(wù)，覆蓋工業(yè)、半導(dǎo)體、鍍膜、科研和分析行業(yè)。上海伯東代理品牌包含：德國Pfeiffer 全系列真空產(chǎn)品、美國 KRI 離子源、美國Brooks Polycold 制冷機，美國HVA 真空閥門，美國 inTEST(Temptronic)高速溫度循環(huán)測試機，離子蝕刻機，真空鍍膜系統(tǒng)及配套真空零配件等。上海伯東作為國際真空品牌代理商，全權(quán)負責(zé)在中國地區(qū)的銷售和維修服務(wù)，99% 使用原廠進口零部件以及國外受訓(xùn)維修工程師；擁有的拆解，維修，校正能力并提供24小時在線服務(wù)。

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渦輪分子泵應(yīng)用于磁控濺射系統(tǒng)

渦輪分子泵應(yīng)用于磁控濺射系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

渦輪分子泵應(yīng)用于磁控濺射系統(tǒng)
磁控濺射 Megnetron Sputtering 是物理氣相沉積 Physical Vapor Deposition, 簡稱 PVD 的一種, 可用于金屬及氧化物薄膜的制備, 具有設(shè)備簡單, 易于控制, 鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點, 磁控濺射系統(tǒng)對真空要求較高, 真空度一般要求在 5*10-7 至 10-10 mbar, 因此需要配置性能穩(wěn)定的分子泵.

上海伯東渦輪分子泵應(yīng)用于磁控濺射鍍膜機客戶案例: 某研究所磁控濺射系統(tǒng)用于光刻膠片上濺金屬鉻, 銅, 鈦. 其中材料生長腔工作真空度要求 < 10-7 hPa, 能做到4英寸片, 3靶位, 可實現(xiàn)編程鍍膜. 材料生長腔對渦輪分子泵的要求較高, 經(jīng)過伯東推薦加裝普發(fā) Pfeiffer 分子泵 HiPace 700.

超過真空系統(tǒng)配置:

	渦輪分子泵 HiPace 700 接口: DN 160 CF-F 極限真空: < 5X10-10 mbar 氮氣壓縮比: > 1X1011
	全量程真空規(guī) PKR 251 接口: DN40 CF-F 測量范圍: 5E-9至 1000 hpa
	HVA 超過真空閘閥 11000 口徑: DN 100 CF-F 極限真空: 1x10^-10mbar 手動操作

Pfeiffer 渦輪分子泵抽速范圍 10 至 2700 L/S, 轉(zhuǎn)速 90,000 rpm, 極限真空 1E-11 mbar, 對小分子氣體具有更高的壓縮比, 實踐證明 Pfeiffer 渦輪分子泵運行時間可以達到 100,000 小時! 普發(fā)分子泵提供復(fù)合軸承分子泵和五軸全磁浮分子泵二大系列滿足不同應(yīng)用, 推薦搭配 Pfeiffer 旋片泵和干泵共同使用. 更多分子泵典型應(yīng)用 >>

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