NH3氨氣烘箱 氨氣真空系統(tǒng) 氨氣圖形反轉(zhuǎn)爐用途:
在光刻膠的處理過程中,調(diào)整其極性對(duì)于實(shí)現(xiàn)精確的圖形轉(zhuǎn)移至關(guān)重要。氨氣作為一種有效的極性調(diào)節(jié)劑,在光刻膠中發(fā)揮著關(guān)鍵作用。使得光刻膠在半導(dǎo)體、光學(xué)器件及生物芯片等制造領(lǐng)域能夠更精準(zhǔn)地適應(yīng)圖形轉(zhuǎn)移的需求,提升產(chǎn)品的制造質(zhì)量和精度。氨氣通過其化學(xué)性質(zhì),在光刻膠中發(fā)揮著調(diào)整極性、優(yōu)化圖形轉(zhuǎn)移效果的重要作用,是微細(xì)制造領(lǐng)域的關(guān)鍵材料之一。
氨氣真空烘烤系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于新材料(如超材料、表面工程)、前沿物理研究(如超導(dǎo)、量子)、仿生(功能性表面)、光子(微納光學(xué)、光波導(dǎo)、光子晶體)、生物(DNA測(cè)試、納流控)、微電子等研究領(lǐng)域,以及3D結(jié)構(gòu)光器件、光子芯片、高功率芯片等加工領(lǐng)域。
NH3氨氣烘箱 氨氣真空系統(tǒng) 氨氣圖形反轉(zhuǎn)爐技術(shù)性能:
容量:2-12寸晶圓或方片兼容,可定制
溫度范圍: RT-200℃
真空度: ≤100pa
控制儀表: 人機(jī)界面+PLC
氣路控制: 多氣路控制
真空泵: 高品質(zhì)渦旋無油泵
保護(hù)裝置: NH3監(jiān)測(cè)保護(hù),超溫保護(hù),漏電保護(hù)等
NH3氨氣烘箱 氨氣圖形反轉(zhuǎn)爐特點(diǎn):
具有重復(fù)性好
更加穩(wěn)定
環(huán)保,對(duì)人體無害的顯著優(yōu)點(diǎn)
也可用于其它硅烷沉積工藝的處理