等離子電漿拋光設備簡介：
等離子也稱為物質的第四態(tài)，是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象，使氣態(tài)粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團、離子和電子。等離子就是在高溫高壓下，拋光劑水溶，在高溫高壓下，電子會脫離原子核而跑出來，原子核就形成了一個帶正電的離子，當這些離子達到一定數(shù)量的時候可以成為等離子態(tài)，等離子態(tài)能量很大，當這些等離子和要拋光的物體摩擦時，頃刻間會使物體達到表面光亮的效果。
本產(chǎn)品采用的拋光技術是一種不同傳統(tǒng)方法的新型拋光技術，稱之為液態(tài)電漿拋光技術。此拋光技術是根據(jù)電化學原理與化學反應原理而研發(fā)設計的。是利用電解質成分、電解質水溶液濃度與溫度、電壓及電流密度對工件表面粗糙度、光澤度、反射率等表面特性的關聯(lián)，而研發(fā)出操作的新型拋光技術。
電漿拋光(EDTM)機的主要特點:
(1)根據(jù)工件尺寸的不同,可以使工件在幾十秒至2分鐘內(nèi)達到近鏡面的拋光效果,使后續(xù)處理十分方便;
(2)在拋光過程中有效去除沖壓件或其它制造件的邊角毛刺;
(3)拋光過程中使工件表面產(chǎn)生一層鈍化膜,使其保持耐久光亮,增強拋光面的抗腐蝕性能;
(4)拋光均勻程度,整個工件表面甚至于所有死角部位都可達到一致的近鏡面效果;
(5)拋光過程由電參數(shù)控制,全過程采用進口PLC自動化控制,操作簡單,維護方便;
(6)生產(chǎn)效率高,生產(chǎn)成本低;
(7)拋光過程不產(chǎn)生化學污染【低濃度藥劑(95%~97%水+3%~5%的藥品,PH值約6.5~7)】.
(8)清潔能力:EDTM系統(tǒng)不但定位為快速拋光機構之外,同時亦適合作為各種形狀合金表面的去污、除脂、去氧化層、清潔殘留雜質及化學藥物,提供工件表面鍍膜前質的前置處理.
我們的宗旨：技術為根，創(chuàng)新提升品質
文化宗旨：結構的構思，決定機械的價值。
設計的細節(jié)，決定設計的成敗。
精細的做工，決定產(chǎn)品的品質。
企業(yè)精神：勇于挑戰(zhàn)，敢于創(chuàng)新；以人為本，以德為先。
隨著中國經(jīng)濟高速發(fā)展，不少企業(yè)出現(xiàn)用人短缺，生產(chǎn)成本增加現(xiàn)象，不利于公司快速發(fā)展，榮迅自動化設備有限公司全體人員將為發(fā)展中的企業(yè)努力實現(xiàn)現(xiàn)代化加工設備，加快企業(yè)發(fā)展步伐而堅持不懈。
主要產(chǎn)品:貼標機、乳化機、超聲波清洗機、電化學去毛刺機床、電漿拋光設備、灌裝機、鎖蓋機、機械手、機械臂、精密電解加工機床
適用行業(yè)：不銹鋼制品、五金飾品、手機電子、汽車配件、航空航天、電子數(shù)碼零配件、精密模具、精密配件及五金制品等行業(yè)。
