角度弧度精密影像測(cè)量?jī)x產(chǎn)品參數(shù)
u 變焦鏡筒：采用光學(xué)變焦物鏡，光學(xué)放大倍率0.7X~4.5X，視頻總放大倍率40X~400X連續(xù)可調(diào)，物方視場(chǎng)：10.6-1.6mm，按客戶要求選配不同倍率物鏡。
u 攝像機(jī)：配備低照度SONY機(jī)芯1/3′彩色CCD攝像機(jī)，圖像表面紋理清晰，輪廓層次分明，保證擁有高品質(zhì)的測(cè)量畫(huà)面?？梢陨?jí)選配1/2′CMOS130萬(wàn)像素?cái)z像機(jī)。
u 底座：儀器底座采用高精度天然花崗石，穩(wěn)定性高，硬度高，不易變形。
u 光柵尺：儀器平臺(tái)帶有高精度光柵尺（X,Y,Z三軸），解析度為0.001mm。Z軸通過(guò)二次聚焦可實(shí)現(xiàn)對(duì)溝槽、盲孔的深度進(jìn)行測(cè)量。
u 光源：采用長(zhǎng)壽命LED環(huán)形冷光源（表面光及底光），使工件表面照明均勻，邊緣清晰，亮度可調(diào)。
u 導(dǎo)軌：雙層工作平臺(tái)設(shè)計(jì)，配備高精度滾動(dòng)導(dǎo)軌，精度高，移動(dòng)平穩(wěn)輕松。
u 絲桿：X,Y軸工作臺(tái)均使用無(wú)牙光桿摩擦傳動(dòng)，避免了絲桿傳動(dòng)的間隙，靈敏度大大提高，亦可切換快速移動(dòng)，提高工作效率。
工 作 臺(tái) | 儀器型號(hào) | EVM-1510G | EVM-2010G | EVM-2515G | EVM-3020G | EVM-4030G |
金屬臺(tái)尺寸(mm) | 354×228 | 404×228 | 450×280 | 500×330 | 606×466 | |
玻璃臺(tái)尺寸(mm) | 210×160 | 260×160 | 306×196 | 350×280 | 450×350 | |
運(yùn)動(dòng)行程(mm) | 150×100 | 200×100 | 250×150 | 300×200 | 400×300 | |
儀器重量(kg) | 100 | 110 | 120 | 140 | 240 | |
外型尺寸L*W*H | 756×540×860 | 670×660×950 | 720×950×1020
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角度弧度精密影像測(cè)量?jī)x儀器環(huán)境的工作要求
1、溫度與濕度：
溫度：20－25℃，：22℃; 相對(duì)濕度：50％－60％，：55％; 機(jī)房溫度變化率：10℃/小時(shí); 北部地區(qū)氣候干燥，建議使用加濕器; 南方地區(qū)氣候潮濕，建議使用去濕器
2、工作室熱量計(jì)算：
·保持工作室內(nèi)設(shè)備系統(tǒng)操作于溫度、濕度空間，必須計(jì)算室內(nèi)總散熱量，其中包括室內(nèi)設(shè)備儀器散熱量總和（燈光普通照明燈可忽略不計(jì)）
·人體散熱量：600BTY/小時(shí)/人
·工作室散熱量：5/平方米
·儀器放置空間（L*W*H）：2200mm ╳ 2000mm ╳ 2000mm
3、空氣含塵量：
機(jī)房應(yīng)保持清潔，空氣中大于0.5MLXPOV的雜質(zhì)在每立方英尺不多于45000個(gè)，若空氣灰塵過(guò)多，很容易造成資源讀寫(xiě)錯(cuò)誤及磁盤(pán)機(jī)中磁盤(pán)或讀寫(xiě)磁頭毀損。
4、機(jī)房顫動(dòng)度：
機(jī)房?jī)?nèi)顫動(dòng)度不得高于0.5T，機(jī)房?jī)?nèi)產(chǎn)生震動(dòng)的機(jī)器避免放置在一起，因顫動(dòng)將使機(jī)器內(nèi)機(jī)械部分、接頭、主機(jī)面板接觸部分產(chǎn)生松動(dòng)?而造成機(jī)器不正常。
