荷蘭SPARKNANO薄膜沉積機床Vellum系列赫爾納供應

荷蘭SPARKNANO薄膜沉積機床Vellum系列赫爾納供應，由赫爾納德國總部直接采購，近30年進口工業(yè)品經驗,原裝產品,支持選型，為您提供一對一好的解決方案：貨期穩(wěn)定，快速報價，價格優(yōu)，設有8大辦事處提供相關售后服務。

公司簡介：

SparkNano 開發(fā)和供應用于能源、OLED 和相關應用的空間原子層沉積設備。SparkNano 初成立于 2018 年，是 TNO（荷蘭應用科學研究組織）的衍生公司。該公司的產品使其客戶能夠無縫地從實驗室擴展到晶圓廠。除了高質量的設備外，經驗豐富的團隊還支持流程開發(fā)和優(yōu)化，提供應用支持以及產量和性能管理。SparkNano 位于埃因霍溫。

荷蘭SPARKNANO薄膜沉積Vellum系列產品介紹：

SPARKNANO薄膜沉積Vellum系列專為片對片 （S2S） 應用量身定制，可在 0.5 x 0.5m 至 1.5 m 的基材上沉積。VELLUM系列是高通量、全自動空間原子層沉積解決方案。Vellum 系列專為超高通量片材應用而設計，可隨時集成到您的全自動批量生產過程中。Vellum 系列可以處理剛性基材，如晶圓和玻璃板，也可以處理安裝在載體上的靈活箔。

金屬或聚合物箔、晶片、玻璃和多孔基材等基材。所有這些都旨在實現(xiàn)高達每分鐘 20 個基板的實際生產吞吐量。與各種沉積材料和沉積溫度相結合。系統(tǒng)的襯底流處理和在線集成設置將根據(jù)整體設置需要進行設計。

荷蘭SPARKNANO薄膜沉積Vellum系列優(yōu)勢特點：

? 大批量全自動襯底加載和卸載

? 襯底尺寸高達 500 mm x 500 mm

? 等離子體增強和熱原子層沉積

? 支持多種前驅體和配方

? 無掩模圖案沉積

? 大氣 N2 和 Ar 惰性氣體操作模式

荷蘭SPARKNANO薄膜沉積Vellum系列技術規(guī)格：

? 典型的沉積材料：IrO2，Ir，Pt，Al2 O3，TiO2，SiO2，SnO2，ZnO等等

? 加工溫度：空間熱原子層沉積 （ALD） 50°C - 250°C/等離子體增強空間原子層沉積 （ALD） 50°C - 200°C

? 生產力：模塊化系統(tǒng)根據(jù)應用需求進行調整，需要多個沉積室以優(yōu)化產量

? 系統(tǒng)尺寸：2 模塊版本 6 米（寬）x 3 米（深）x 2.1 米（高）

荷蘭SPARKNANO薄膜沉積Vellum系列主要應用：

薄膜沉積Vellum產品線是一個用于高通量的全自動空間原子層沉積的加工平臺。