雙盤磨拋機

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哈氏槽，離心機，庫侖測厚儀，孔銅測厚儀，X射線測厚儀，可焊性測試儀，離子污染測試儀，電鍍添加劑分析儀，CVS，輻射測量表，金相切割機，金相磨拋機，鑲嵌機，砂紙，絨布，拋光粉，液，膏，水質(zhì)測試包，水質(zhì)分析儀,EXTECH,銅箔測厚儀,孔規(guī)(銷售維修電話：)

哈氏槽,離心機,庫侖測厚儀，孔銅測厚儀，X射線測厚儀，可焊性測試儀，離子污染測試儀，電鍍添加劑分析儀，CVS，輻射測量表，金相切割機，金相磨拋機，鑲嵌機，砂紙，絨布，拋光粉，液，膏，水質(zhì)測試包，水質(zhì)分析儀,EXTECH,銅箔測厚儀,孔規(guī)

產(chǎn)品特點：8(203mm)鋁制底盤雙盤拋光機，連兩個8(203mm)尼龍底盤及兩個固定環(huán)

雙盤磨拋機產(chǎn)品信息

產(chǎn)品特點：

8"(203mm)鋁制底盤

雙盤拋光機，連兩個 8"(203mm) 尼龍底盤及兩個固定環(huán)。轉(zhuǎn)速約 50 -500rpm，並備有轉(zhuǎn)速顯示屏。

在底盤的附近設有可彎曲軟管，出/入水管接駁口設置在儀器的背面，並附有開關(guān)龍頭，可直接將水沖向樣品，對研磨工序十分有幫助。

技術(shù)規(guī)格：

馬達驅(qū)動	無極變速：1HP (0.75kW) 的馬達和控制器
底盤支持	快速更換底盤系統(tǒng)
底盤尺寸	兩個直徑為8"(203mm)鋁制底盤
潤滑方式	水的入口和出口在后面板，配備了軟管的水龍頭，可將水輸送到研磨盤的任意地方。
電子學	CW順時和CCW逆時兩個方向旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速0-500rpm配合EZ-DRO調(diào)整
規(guī)格大小
寬度	25 1/2" (650 mm)
深度	24" (610mm) (add 1" (30mm) 后面板的進出水口
高度	11" (280mm)
重量	70 lbs. (32Kg)

訂購指南：

型號	描述
E-10248	Labpol Duo 8雙盤磨拋機
E-10204	Labpol Duo 8雙盤磨拋機防護蓋
E-10206	8"(203mm)鋁制底盤防護裝置
E-10218	8"(203mm)鋁制底盤
E-10249	230mm砂紙固定環(huán)
關(guān)于磨拋的精細程度與砂紙，絨布，研磨拋光料息息相關(guān)，請與我們銷售工程師聯(lián)系獲得Z佳的配置清單。