| 品牌 | 其他品牌 | 加工定制 | 是 |
|---|---|---|---|
| 電壓 | 380v | 凈化率 | 85% |
| 重量 | 350kg |
光催化設(shè)備選型
是利用光來激發(fā)二氧化太等化合物半導(dǎo)體，利用它們產(chǎn)生的電子和空穴來參加氧化—還原反應(yīng)。 當(dāng)能量大于或等于能隙的光照射到半導(dǎo)體納米粒子上時(shí)，其價(jià)帶中的電子將被激發(fā)躍遷到導(dǎo)帶，在價(jià)帶上留下相對(duì)穩(wěn)定的空穴，從而形成電子—空穴對(duì)。由于納米材料中存在大量的缺陷和懸鍵，這些缺陷和懸鍵能俘獲電子或空穴并阻止電子和空穴的重新復(fù)合。這些被俘獲的電子和空穴分別擴(kuò)散到微粒的表面，從而產(chǎn)生了強(qiáng)烈的氧化還原勢(shì)。
產(chǎn)品特點(diǎn)
1、能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物及各種惡臭味，適應(yīng)性強(qiáng)，可每天連續(xù)長(zhǎng)時(shí)間工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠
2、惡臭氣體無(wú)需進(jìn)行預(yù)處理，運(yùn)行成本低，設(shè)備耗能低，可節(jié)約大風(fēng)量排風(fēng)動(dòng)力能耗
3、適合于布置緊湊、場(chǎng)地狹小等特殊條件，無(wú)需添加其他物質(zhì)進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，只需設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力。
光催化設(shè)備選型
工藝原理
光催化通常是指有機(jī)物再光的作用下，逐步氧化成低分子中間產(chǎn)物最終生成如CO2，H2O及其他的離子如：NO3-，PO43-，C1-等。有機(jī)物的光降解可分為直接光降解，間接光降解。前者是指有機(jī)物分子吸收光能后進(jìn)一步發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)。后者是周圍環(huán)境存在的某些物質(zhì)吸收光能成激發(fā)態(tài)，再誘導(dǎo)一系列有機(jī)污染的反應(yīng)。間接光降解對(duì)環(huán)境中難生物降解的有機(jī)污染更為重要。
優(yōu)點(diǎn)：
-
直接用空氣中的氧氣做氧化劑，反應(yīng)條件溫和（常溫 常壓）
- 可以將有機(jī)污染物分解為二氧化碳和水等無(wú)機(jī)小分子，凈化效果*。
- 半導(dǎo)體光催化劑化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，氧化還原性強(qiáng)，成本低，不存在吸附飽和現(xiàn)象，使用壽命長(zhǎng)。
- 光催化凈化技術(shù)具有室溫深度氧，二次污染小，運(yùn)行成本低和可望利用太陽(yáng)光為反應(yīng)光源等優(yōu)點(diǎn)，所以光催化特別合適室內(nèi)揮發(fā)有機(jī)物的凈化，在深度凈化方面顯示出了巨大的應(yīng)用潛力。 常見的光催化劑多為金屬氧化物和硫化物，其中二氧化太的綜合性能，應(yīng)用*。
