純水設(shè)備可以將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水。設(shè)備產(chǎn)水電阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm極限值。集成電路工業(yè)中超純水設(shè)備用于半導(dǎo)體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固態(tài)電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水設(shè)備產(chǎn)出的超純水。
依各種原水水質(zhì)和用戶(hù)要求的不同，超純水設(shè)備的工藝大體可分為預(yù)處理、脫鹽和精處理三步。
　　預(yù)處理 包括砂濾、多介質(zhì)過(guò)濾、軟化、加氯、調(diào)節(jié)pH、活性碳過(guò)濾、脫氣等。過(guò)濾可除去 1～20微米大小的顆粒，軟化和調(diào)節(jié)pH可防止反滲透膜結(jié)垢，加氯是殺菌?；钚蕴歼^(guò)濾是除去有機(jī)物和自由氯，脫氣是清除溶于水中的CO2等。
　　脫鹽 包括反滲透、離子交換。反滲透是滲透現(xiàn)象的逆過(guò)程,在濃溶液上加壓力,使溶劑從濃溶液一側(cè)通過(guò)半透膜向稀溶液一側(cè)反向滲透，脫鹽可達(dá)98%，并能除去99%的細(xì)菌顆粒和溶解在水中的有機(jī)物。離子交換的原理是當(dāng)水通過(guò)陽(yáng)離子交換樹(shù)脂時(shí)，水中的陽(yáng)離子被陽(yáng)離子交換樹(shù)脂吸附，樹(shù)脂上可交換的陽(yáng)離子如H離子被置換到水中，并和水中的陰離子結(jié)合成相應(yīng)的無(wú)機(jī)酸，如超純水：
　　這種含有無(wú)機(jī)酸的水，當(dāng)下一步通過(guò)陰離子交換樹(shù)脂層時(shí)，水中的陰離子被陰離子交換樹(shù)脂吸附。樹(shù)脂上可交換的陰離子如OH離子被置換到水中,并與水中的H離子結(jié)合成水，即超純水
　　精處理 包括紫外線殺菌、終端膜過(guò)濾和超濾。紫外線消毒器紫外線殺菌是因生物體的核酸吸收紫外線光的能量而改變核酸自身結(jié)構(gòu),破壞核酸功能而使細(xì)菌死亡。殺菌的光譜波長(zhǎng)為2600埃。各種膜過(guò)濾能除掉直徑大于 0.2微米的顆粒，但對(duì)于清除有機(jī)物則不如反滲透和超濾有效。反滲透設(shè)備超濾是把各種選擇性的分子分離。在超濾過(guò)程中，水在壓力下流過(guò)一個(gè)卷式或中空纖維膜棒。膜孔徑在10～200埃范圍內(nèi),薄膜厚度為0.1～0.5微米,附在一個(gè)中孔的纖維棒內(nèi)壁上，超濾能除去細(xì)菌和0.05微米的粒子。
電子工業(yè)超純水概述
　　 超純水設(shè)備廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、花式棉花糖集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。反滲透設(shè)備目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級(jí)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。電子工業(yè)超純水設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域
1、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水；
2、超純材料和超純化學(xué)試劑勾兌用超純水；
3、實(shí)驗(yàn)室和中試車(chē)間用超純水；
4、汽車(chē)、家電表面拋光處理；
5、光電子產(chǎn)品；
6、其他高科技精微產(chǎn)品；
7、超純材料和超純化學(xué)試劑
8、實(shí)驗(yàn)室和中試車(chē)間

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