無損成像將時(shí)間分辨研究帶入了納米長度尺度

的地形表面成像能力（生物，半導(dǎo)體，量子）

一根或多根帶有根據(jù)您的要求配置的終端站的光束線

自組裝材料中納米級(jí)有序衍射

用于評(píng)估機(jī)械和薄膜特性的結(jié)構(gòu)泵探頭，以了解彈性響應(yīng)，熱傳遞和聲子模式

磁性系統(tǒng)的高分辨率，革命性的測量對(duì)不同的磁性層高度敏感

KMLabs QM 量子顯微鏡的光子成像解決方案是一個(gè)集成的商業(yè)化平臺(tái)，可實(shí)現(xiàn)EUV范圍內(nèi)的超快速光譜和納米級(jí)的高對(duì)比度，近地表到地下成像。它可以對(duì)成分和結(jié)構(gòu)進(jìn)行基于實(shí)驗(yàn)室的2D高對(duì)比度成像，研究圖案化薄膜的機(jī)械性能，深入了解材料性能，以及自旋電子，ALD，2D，低密度輕質(zhì)，能源，空間和光伏材料的功能表征。

通過將飛秒激光器的時(shí)間敏感性與EUV顯微鏡和衍射的空間分辨率相結(jié)合，QM使得一系列技術(shù)可針對(duì)研究和工業(yè)中的重要挑戰(zhàn)進(jìn)行調(diào)整。例如，對(duì)于電池，鋰邊緣附近的EUV吸收提供了微觀和光譜上豐富的區(qū)域，以了解鋰鍵合。對(duì)于半導(dǎo)體，QM提供了的對(duì)鍵合敏感的掩埋和表面納米形貌的關(guān)鍵細(xì)節(jié)。QM 量子顯微鏡可配置，包括激光源（EUV和/或VUV），放大器，根據(jù)用戶實(shí)驗(yàn)量身定制的光束線以及可有效覆蓋納米/量子材料的顯微鏡/光譜學(xué)領(lǐng)域的成像或其他分析工作站。