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廣電計(jì)量檢測(cè)集團(tuán)股份有限公司

狹縫式光束質(zhì)量分析儀

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳維爾克斯光電有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2024/3/7 12:55:12
  • 訪問(wèn)次數(shù)321
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深圳維爾克斯光電有限公司是的進(jìn)口光電代理商,代理的激光、光電、光機(jī)械類產(chǎn)品,應(yīng)用涵蓋物理與光學(xué)、化學(xué)、材料、生命科學(xué)等領(lǐng)域。我們與國(guó)內(nèi)各大高校、研究所、激光設(shè)備公司和及精密儀器公司保持著緊密的聯(lián)系,提供針對(duì)不同應(yīng)用的專業(yè)技術(shù)支持。 維爾克斯光電在衍射光學(xué)、微光學(xué)、太赫茲元件、、光束分析儀、太陽(yáng)光模擬器、顯微鏡載物臺(tái)、紅外熱像儀、電控平移臺(tái)、紅外探測(cè)器、光學(xué)儀器等領(lǐng)域具有多年的產(chǎn)品和技術(shù)積累,能夠?yàn)橛脩籼峁└鞣N高性價(jià)比的解決方案。
BeamMap2擁有Beam'R2所沒(méi)有的功能,如實(shí)時(shí)M2,指向,發(fā)散角和焦點(diǎn)位置的測(cè)量的功能是只有BeamMap2具備的。本文主要介紹狹縫式光束質(zhì)量分析儀Beam'R2和BeamMap2。其與傳統(tǒng)的光斑截面分析儀的區(qū)別是,無(wú)需繁復(fù)的移動(dòng)儀器便可以實(shí)時(shí)精準(zhǔn)的得到激光的激光輪廓分布,激光質(zhì)心,實(shí)時(shí)M2,指向,發(fā)散角和焦點(diǎn)位置和激光對(duì)準(zhǔn)的測(cè)量。
狹縫式光束質(zhì)量分析儀 產(chǎn)品信息

    光束強(qiáng)度分析是光子學(xué)許多方面的重要工具。聚焦激光束中的精確強(qiáng)度分布在許多應(yīng)用中是至關(guān)重要的:流式細(xì)胞術(shù),激光打印,醫(yī)療激光和切割激光等等許多方面。 強(qiáng)度輪廓分布測(cè)量可以表征和改進(jìn)產(chǎn)品性能和生產(chǎn)過(guò)程,從而大大節(jié)省成本和時(shí)間,如果使用過(guò)傳統(tǒng)的激光光斑分析儀測(cè)量激光發(fā)散角以及M2值,那么您就知道該過(guò)程的耗時(shí)。 測(cè)量一次,沿z軸移動(dòng)探測(cè)器,在第二個(gè)平面測(cè)量,估計(jì)焦點(diǎn)位置,重新調(diào)整z,再次測(cè)量......通常是一個(gè)漫長(zhǎng),乏味和復(fù)雜的過(guò)程。使用BeamMap2可以實(shí)時(shí)得到測(cè)量激光光束的各項(xiàng)參數(shù)且無(wú)需繁復(fù)的人工操作便可以得到精確的激光M2,激光發(fā)散角,激光聚焦光斑位置。

    本文主要描述了BeamMap2Beam'R2在參數(shù)和功能上的區(qū)別。功能上Beam'R2有的功能BeamMap2基本都有。同時(shí),BeamMap2所以擁有的功能如多個(gè)z平面掃描,實(shí)時(shí)M2,指向,發(fā)散角和焦點(diǎn)位置測(cè)量等特點(diǎn)都是Beam'R2所沒(méi)有的。

    獲得的BeamMap2是可商購(gòu)的多平面光束質(zhì)量分析儀。 DataRay軟件中使用的BeamMap2的屏幕截圖如下所示。 在這里,您可以在四個(gè)不同的z位置看到四個(gè)同時(shí)光束輪廓。 軟件顯示該光束在X,YZ中正確聚焦,并且該光束的M21.47。

    DataRay的Beam'R2非常適合于許多激光光束分析的應(yīng)用。 通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)的2.5μm寬度大小的狹縫和更大的刀口切面,Beam'R2能夠測(cè)量直徑小至2μm的激光光束。 通過(guò)選擇硅和InGaAs或擴(kuò)展的InGaAs,Beam'R2可以分析190 nm2500 nm的光束。 Beam'R2掃描狹縫儀器提供比基于相機(jī)的系統(tǒng)更高的分辨率。

    DataRay的BeamMap2代表了一種不同的實(shí)時(shí)光束分析方法。 它通過(guò)允許沿光束行程的多個(gè)位置進(jìn)行測(cè)量,擴(kuò)展了Beam'R2的測(cè)量功能。 這種實(shí)時(shí)狹縫掃描系統(tǒng)在旋轉(zhuǎn)圓盤上的多個(gè)z平面中使用XY狹縫對(duì),以同時(shí)測(cè)量四個(gè)不同z位置處的四個(gè)光束輪廓。 BeamMap2的設(shè)計(jì)于焦點(diǎn)位置,M2,光束發(fā)散和指向的實(shí)時(shí)測(cè)量。

    


DataRay狹縫式光束質(zhì)量分析儀Beam'R2BeamMap2主要應(yīng)用:

-非常小的激光束輪廓

-光學(xué)組件和儀器對(duì)準(zhǔn)

-OEM集成

-鏡頭焦距測(cè)試

-實(shí)時(shí)診斷聚焦和對(duì)準(zhǔn)誤差

-將多個(gè)裝配體實(shí)時(shí)設(shè)置為相同的焦點(diǎn)

DataRay狹縫式光束質(zhì)量分析儀Beam'R2BeamMap2參數(shù)規(guī)格對(duì)比

參數(shù)

參數(shù)值

BeamMap2

Beam'R2

Comments

波長(zhǎng)可選范圍(nm

190-1150, 650-1800, 190-1800, 190-2500

Yes

Yes

Si, InGaAs, Si + InGaAs,

被掃描光束直徑

μm to 4 mm (2 mm for IGA-X.X)

Yes

Yes

Si + InGaAs, extended

X-Y 輪廓及中心分辨率:

0.1 μ或者 0.05% 的掃描范圍

Yes

Yes

 

精度:

± <2% ± ≤0.5μm

Yes

Yes

 

CW or Pulsed

連續(xù)/脈沖 最小PRR  [500/(激光直徑um)]kHz

Yes

Yes

 

光束對(duì)準(zhǔn)準(zhǔn)直

± 1 mrad with BeamMap2 Colli-Mate

Yes

-

 

M2 測(cè)量

1 to >20, ± 5%

Yes

-

Beam Dependent

實(shí)時(shí)更新

5 Hz

Yes

Yes

4 Z-plane hyperbolic fit

功率&輻照度

1 W Total & 0.3 mW/μm2

Yes

Yes

Adjustable 2-12 Hz

增益范圍:

32dB

Yes

Yes

Metallic film on Sapphire slits

Display graphics: All: X-Y position; Profiles.

BeamMap2 only: M2, Focus; Divergence, Boresight/Pointing



DataRay狹縫掃描式光束品質(zhì)分析儀Beam'R2BeamMap2特點(diǎn):

-實(shí)時(shí)二維狹縫
-
分辨率高達(dá)0.1μm
-
探測(cè)器選項(xiàng),190 - 2500 nm
-5 Hz
更新速率(用戶可調(diào)節(jié)2-12 Hz

-ISO兼容光束直徑測(cè)量
-
端口供電的USB2.0
-
自動(dòng)增益功能
-
可選配件,適用于符合ISO 11146標(biāo)準(zhǔn)的M2測(cè)量。
-
測(cè)量高重復(fù)脈沖激光
     
脈沖最小PRR = [500 /(光束直徑,以μm為單位)] kHz


美國(guó)DataRay掃描狹縫式光束質(zhì)量分析儀BeamMap2所特別具有的特點(diǎn):

-多個(gè)z平面掃描

-使用BeamMap2-Collimate實(shí)時(shí)測(cè)量準(zhǔn)直光束的發(fā)散度

-XYZ曲線,外加θ-Φ角度測(cè)量
-
焦點(diǎn)位置和直徑
-
實(shí)時(shí)M2,指向和發(fā)散角
-
識(shí)別焦點(diǎn),重復(fù)精度為±1μm(光束相關(guān))
-
可選的LensPlate2用于探測(cè)難以接近的光束束腰和重新成像的波導(dǎo)

Optional LensPlate2 for reaching inaccessible beam waists and reimaging waveguides


15168338725
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