PRIOR納米壓電Z軸高負(fù)載晶圓臺(tái),12英寸大尺寸晶圓臺(tái)
毫秒級(jí)響應(yīng)時(shí)間和高帶寬使WP-Z-120A晶圓定位系統(tǒng)非常適合需要高吞吐量的應(yīng)用。電動(dòng)晶圓臺(tái)設(shè)計(jì)用于容納 300毫米（12英寸晶圓）的晶圓，并提供的性能，負(fù)載高達(dá)8公斤，適用于重型晶圓卡盤(pán)。
該平臺(tái)使用電容式定位傳感器提供納米位移測(cè)量和閉環(huán)反饋。彎曲引導(dǎo)在120 μm閉環(huán)范圍內(nèi)提供無(wú)摩擦且可靠的運(yùn)動(dòng)，并通過(guò)Queensgate的數(shù)字閉環(huán)控制器實(shí)現(xiàn)快速響應(yīng)和穩(wěn)定時(shí)間。
PRIOR旗下Queensgate公司業(yè)務(wù)開(kāi)發(fā)經(jīng)理Alison Raby表示“我們很高興向市場(chǎng)推出WP-Z-120A大尺寸晶圓臺(tái)。我們希望設(shè)計(jì)一款能夠承載高負(fù)載但實(shí)現(xiàn)市場(chǎng)的快速響應(yīng)和穩(wěn)定時(shí)間的納米壓電Z軸晶圓載物臺(tái)，晶圓掃描儀的設(shè)計(jì)考慮了OEM客戶，并且可以適應(yīng)輕松升級(jí)到新的OEM晶圓臺(tái)自定義版本?！?span lang="EN-US">
WP-Z-120A高負(fù)載晶圓臺(tái)可針對(duì)不同的環(huán)境和規(guī)格進(jìn)行定制。它與真空 (HV) 兼容，是電子顯微鏡室的理想選擇。還提供超高真空（UHV）和UHV-RAD抗輻射版本。更高負(fù)載的真空臺(tái)定制版本可用于高達(dá)14公斤的負(fù)載，并且提供用于平臺(tái)調(diào)平和掃描的傾斜版本?？筛鶕?jù)要求提供160 μm的擴(kuò)展范圍和200 mm晶圓的更小尺寸。
高負(fù)載壓電晶圓Z軸平臺(tái)技術(shù)規(guī)格：
| 納米晶圓臺(tái)參數(shù) | 定值 | | | 單位 |
| 材質(zhì) | | 鋁 | | |
| 拋光 | | 非磁性鎳 | | |
| 尺寸 | | 375 L X 375 W x 30 H | | |
| 平臺(tái)尺寸 | | 350 直徑 | | |
| | 最小 | 典型值 |
| |
| 閉環(huán)行程 | | 140 | | μm |
| 校準(zhǔn)范圍 | 120 | | | μm |
| 共振頻率 0 kg | | 320 | | Hz |
| 共振頻率 5.2 kg | | 190 | | Hz |
| 共振頻率 8 kg | | 155 | | Hz |
| 線性誤差 | | 0.1 | 0.3 | % |
| 動(dòng)態(tài)（典型值） | | | | |
| 測(cè)試負(fù)載 | 0 | 5.2 | 8 | Kg |
| 平臺(tái)沉降 1 μm | 9 | 13 | 14 | ms |
| 平臺(tái)沉降 30 μm | 16 | 22 | 24 | ms |
| 噪聲 | 1.2 | 1.5 | 1.8 | nm |
| 重復(fù)性, 60 μm步進(jìn) | | 5.5 | | nm |
| 3 dB伺服環(huán)路帶寬 | 65 | 45 | 40 | Hz |
高負(fù)載壓電晶圓Z軸平臺(tái)
高負(fù)載壓電晶圓Z軸平臺(tái)主要應(yīng)用：
-晶圓或掩模檢測(cè)應(yīng)用
-電子顯微鏡SEM/TEM應(yīng)用
-干涉測(cè)量和計(jì)量應(yīng)用
-顯微鏡高精度載物臺(tái)應(yīng)用
-材料檢驗(yàn)應(yīng)用
-鏡面定位應(yīng)用
高負(fù)載壓電晶圓Z軸平臺(tái)定制解決方案：
-真空(HV)兼容版本，非常適合在電子顯微鏡的真空室中使用
-超高真空 (UHV)和UHV-RAD抗輻射版本，具有低放氣聚酰亞胺布線
-高負(fù)載OEM晶圓臺(tái)定制版本，可使用高達(dá)14公斤
-用于平臺(tái)調(diào)平和掃描的傾斜調(diào)制Z軸定制版本
-160 μm的擴(kuò)展范圍
-200 mm晶圓的裝配/12英寸晶圓的裝配
-可提供用于Prior Scientific載物臺(tái)H112高精度載物臺(tái)的轉(zhuǎn)接板
高負(fù)載壓電晶圓Z軸平臺(tái)的NPC-D-6110壓電控制器：
高負(fù)載壓電晶圓Z軸平臺(tái)可由NPC-D-6110壓電控制器驅(qū)動(dòng)控制，NPC-D-6110壓電控制器具備20 μm的更新速率，該規(guī)格參數(shù)在市面上具備極大的優(yōu)勢(shì)，其超低噪聲的控制模式在高伺服環(huán)路帶寬或高負(fù)載使用下依舊可以保證高分辨率運(yùn)行。帶有加速/減速控制的運(yùn)動(dòng)控制算法可減少超調(diào)，可以提供更佳的步進(jìn)穩(wěn)定時(shí)間。該系統(tǒng)提供高達(dá)三個(gè)出廠設(shè)置，可選擇的調(diào)諧預(yù)設(shè)使得控制器使用時(shí)，對(duì)于步進(jìn)穩(wěn)定和樣品質(zhì)量進(jìn)行了優(yōu)化處理。五個(gè)額外的自定義預(yù)設(shè)可用于自定義調(diào)整。
新的速度控制算法為對(duì)焦堆疊或?qū)拱鼑葢?yīng)用提供了超平滑的波形。
高負(fù)載壓電晶圓Z軸平臺(tái)的操作界面：
模擬命令輸入和位置輸出- 10 – + 10 V或0 – 10 V。數(shù)字命令可通過(guò)USB、RS232C或數(shù)字正交/步進(jìn)和方向命令獲得?？蛇x的高速RS422C數(shù)字接口用于樣品精確控制和位置反饋。
提供了一個(gè)DLL接口，便于與客戶的軟件集成。回放自定義編程波形，如光柵掃描或等速剖面的標(biāo)準(zhǔn)功能?？梢栽谧远x點(diǎn)激活單獨(dú)的數(shù)字觸發(fā)輸出，以控制外部設(shè)備，例如相機(jī)成像等應(yīng)用需求。
高負(fù)載壓電晶圓Z軸平臺(tái)訂購(gòu)和配件信息：
| 訂購(gòu)型號(hào) | 晶圓臺(tái)描述 |
| QGWP120A-D1 | 300 mm (12") high speed low profile wafer piezo stage 120 μm Z with NPC-D-6100 digital controller |
| QGWP120A-UHV-D1 | 300 mm (12”) high speed low profile wafer piezo stage 120μm Z high vacuum compatible with NPC-D-6100 digital controller |
| 配件信息 | |
| QGWPADAPT1 | H112 to WP120A adapter plate kit |
| QGWP30 | 150, 200 and 300 mm (6, 8 & 12”) wafer chuck |
| QGWP30V | 150, 200 & 300 mm (6, 8 & 12”) vacuum hold wafer chuck |
