用于故障分析與敏感材料研究的高真空原子力顯微鏡
在高真空環(huán)境進(jìn)行納米測(cè)量可顯著提高數(shù)據(jù)的靈敏度和分辨率，并增強(qiáng)材料分析能力。 因?yàn)楦哒婵諕呙璀h(huán)境相比氮?dú)釴2或干燥環(huán)境條件更具有精確性和穩(wěn)定的重復(fù)性的數(shù)據(jù)，用戶可以在半導(dǎo)體材料和故障分析等應(yīng)用中測(cè)量各種摻雜濃度和反饋信號(hào)的不同響應(yīng)。
在高真空條件下執(zhí)行掃描擴(kuò)散電阻顯微鏡測(cè)量可減少所需的針尖-樣本相互作用力，從而大幅度降低對(duì)樣本和針尖的損傷。如此可延長(zhǎng)各針尖的使用壽命，使掃描更加低成本和便捷，并通過提高空間分辨率和信噪比得到更為精確的結(jié)果。因此，利用NX-Hivac進(jìn)行的高真空掃描擴(kuò)散電阻顯微術(shù)測(cè)量可謂是故障分析工程師增加其吞吐量、減少成本和提高準(zhǔn)確性的明智選擇。
Park Hivac 管理器
NX-Hivac 真空自動(dòng)控制
Hivac 管理器通過一鍵單擊在邏輯和視覺上控制真空條件抽氣和排氣過程來實(shí)現(xiàn)高真空。各個(gè)過程通過顏色和圖示變化得到直觀監(jiān)控，一鍵單擊后您即可無需操心真空操作順序。更快速、更簡(jiǎn)便的真空控制軟件使原子力顯微鏡的使用更便捷更高效。
高級(jí)自動(dòng)化特點(diǎn)
NX-Hivac具有大量功能從而能夠減少用戶輸入。換言之，您可以更快速地掃描，提高實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)量。
配備電控載物臺(tái)的StepScan 自動(dòng)化掃描
StepScan允許用戶能夠?qū)ζ骷M(jìn)行編程從實(shí)現(xiàn)而快速便捷地多區(qū)域成像。NX-Hivac讓您只需五步即可完成樣本掃描：掃描、提升懸臂、移動(dòng)電動(dòng)平臺(tái)至用戶定義坐標(biāo)區(qū)域、進(jìn)針及重復(fù)掃描。如此可極大地提高生產(chǎn)率，減少用戶輸入。
電動(dòng)激光對(duì)準(zhǔn)
Park電動(dòng)激光對(duì)準(zhǔn)使用戶無需輸入即可無縫銜接自動(dòng)化測(cè)量例程。憑借著我們的預(yù)準(zhǔn)直懸臂架，在更換探針時(shí)激光已對(duì)準(zhǔn)懸臂。只需要調(diào)整定位旋鈕，便可在X和Y軸上任意定位激光光點(diǎn)，達(dá)到位置。
提高精度和生產(chǎn)率
NX-Hivac即是精準(zhǔn)的高性能原子力顯微鏡，同時(shí)也是用于故障分析的方便的原子力顯微鏡之一。Park NX-Hivac幫您可以提高自己的生產(chǎn)效率，并確保取得靠譜的結(jié)果。
閉環(huán)XY和Z軸掃描儀
利用兩個(gè)獨(dú)立的閉環(huán)XY和Z軸撓曲掃描儀，您可以確信掃描的高精準(zhǔn)度。NX-Hivac提供低殘余彎曲的平面和正交XY軸掃描，使得整個(gè)掃描范圍內(nèi)的離面運(yùn)動(dòng)距離低于1 nm。此外，NX-Hivac的特色還有非線性為低于0.5%的15 μm掃描范圍的高速Z軸掃描儀，無需進(jìn)行軟件后期處理即可獲得精準(zhǔn)的二維和三位測(cè)量。
低噪聲XYZ軸位置傳感器
NX-Hivac具有Park原子力顯微鏡行業(yè)的低噪聲Z軸探測(cè)器功能，可準(zhǔn)確測(cè)量樣本形貌，同時(shí)低噪聲XY軸閉環(huán)掃描將前后掃描間隙降低至掃描范圍的0.15%。
24位數(shù)字電子控制器
NX-Hivac的一大特點(diǎn)是NX系列電子控制器可實(shí)現(xiàn)時(shí)間浪費(fèi)最小化、精度。我們的控制器為全數(shù)字、24位高速器件，用戶能夠利用其執(zhí)行一系列掃描，包括我們的真正非接觸（True Non-Contact）模式?？刂破骶哂械驮肼曉O(shè)計(jì)和高速處理部件，是精密電壓和電流測(cè)量及納米級(jí)成像的之選。嵌入式電子產(chǎn)品同時(shí)具有數(shù)字信號(hào)處理特點(diǎn)，用戶可輕松地分析測(cè)量值和成像。
技術(shù)指標(biāo)
| 掃描器 | XY掃描器： 50 μm × 50 μm (100 μm x 100 μm 可選) 掃描器： 15 μm |
| 視覺 | 軸向直接觀察樣品表面和懸臂 視野：840μm×630μm（帶10倍物鏡） CCD：500萬像素 |
| 樣品臺(tái) | 樣品尺寸：使用單個(gè)樣品時(shí)為100 mm x 100 mm的開放空間，使用多個(gè)樣品時(shí)為10 mm x 10 mm的開放空間，厚度為20 mm XY樣品臺(tái)行程范圍： 22 mm x 22 mm Z平臺(tái)行程范圍： 24 mm 聚焦臺(tái)行程范圍: 11 mm |
| 高真空 | 真空等級(jí)： 通常小于 1 x 10-5 托 泵速: 使用渦輪和干式泵在約5分鐘內(nèi)達(dá)到 10^-5托 |
| 控制器 | 信號(hào)處理: ADC: 18通道 X，Y和Z掃描器位置傳感器的24位ADC DAC: 17 通道 用于X，Y和Z掃描器定位的20位ADC 綜合功能: 4通道靈活的數(shù)字鎖定放大器彈簧常數(shù)校準(zhǔn)（熱控制法）數(shù)字Q控制 |
| 軟件 | Park SmartScan™: AFM系統(tǒng)控制和數(shù)據(jù)采集軟件 自動(dòng)模式，可快速設(shè)置和輕松成像 手動(dòng)模式，用于高級(jí)使用和更精細(xì)的掃描控制 XEI: AFM數(shù)據(jù)分析軟件 獨(dú)立設(shè)計(jì)—可以安裝和分析AFM以外的數(shù)據(jù) 能夠生成采集數(shù)據(jù)的3D渲染 Hivac Manager 全自動(dòng)真空控制軟件 |
| 選項(xiàng)/模式 | 非接觸 接觸 輕巧 磁學(xué)特性 磁力顯微鏡 (MFM) 介電/壓電特性 壓電響應(yīng)力顯微鏡（PFM） 高壓PFM 壓電響應(yīng)譜 機(jī)械性能 PinPoint納米力學(xué) 力調(diào)制顯微鏡（FMM） 納米壓痕 納米刻蝕 高壓納米刻蝕 納米操縱 側(cè)向力顯微鏡（LFM） 力距（F / d）譜 力體積成像 電學(xué)特性 導(dǎo)電原子力顯微鏡（C-AFM） I / V譜 開爾文探針力顯微鏡（KPFM） 高壓KPFM 掃描電容顯微鏡（SCM） 掃描擴(kuò)展電阻顯微鏡（SSRM） 掃描隧道顯微鏡（STM） 靜電力顯微鏡（EFM） 熱性能 掃描熱顯微鏡（SThM） 化學(xué)特性 化學(xué)力顯微鏡，帶功能化針尖 |
| 配件 | 溫控臺(tái) 傾斜樣品載臺(tái) 卡入式樣品載臺(tái) |
