搭載場發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng)，將島津EPMA分析性能發(fā)揮到

從SEM觀察條件到1μA量級，在各種束流條件下都擁有非常的空間分辨率的場發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng)。結(jié)合島津傳統(tǒng)的高性能X射線譜儀，將分析性能發(fā)揮至。

超高分辨率面分析

對碳膜上Sn球放大3萬倍進(jìn)行面分析。即使是SE圖像（左側(cè)）上直徑只有50nm左右的Sn顆粒，在X射線圖像（右側(cè)）上也是清晰可見。

的空間分辨率

EPMA可達(dá)到的別的二次電子圖像分辨率3nm（加速電壓30kV）分析條件下的二次電子分辨率。
（加速電壓10kV時20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA）

二次電子圖像分辨率3nm

碳噴鍍金顆粒的觀察實(shí)例。實(shí)現(xiàn)分辨率
3nm（@30kV）。相對較高的束流也可將電子束壓
細(xì)聚焦，更加容易的獲得高分辨率的SEM圖像。

大束流超高靈敏度分析
實(shí)現(xiàn)3.0μA（加速電壓30kV）的束流。
全束流范圍無需更換物鏡光闌。

最多可同時搭載5通道高性能4英寸X射線譜儀
無人可及的52.5°X射線取出角。
4英寸羅蘭圓半徑兼顧高靈敏度與高分辨率。
最多可同時搭載5通道相同規(guī)格的X射線譜儀。

全部分析操作簡單易懂
全部操作僅靠一個鼠標(biāo)就可進(jìn)行的可操作性。
追求「易懂」的人性化用戶界面。
搭載導(dǎo)航模式，自動指引直至生成報告。

超高靈敏度面分析

使用1μA束流對不銹鋼進(jìn)行5000倍的面分析。精確地捕捉到了Cr含量輕微不同形成的不同的相（左側(cè)），同時也成功地將含量不足0.1%的Mn分布呈現(xiàn)在我們眼前（右側(cè)）。