用途：

本設備是我公司研發(fā)用于真空蒸發(fā)鍍光學薄膜、有機物薄膜和金屬薄膜。特別適合于高科技企業(yè)、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開發(fā)。

主要技術參數：

1. 真空室：∅220mm*H380mm（標配380mm高，若需要LIFT-OFF工藝腔體需加工至500）；2. 可鍍工件直徑：60*60mm,配抽拉式樣品臺，樣品可旋轉；另配備銅基板樣品臺；

3. 極限真空度：優(yōu)于5*10^-5Pa（機械泵系統）、8*10^-5Pa（分子泵系統）;4. 抽氣時間：大氣壓~6*10^-4Pa小于300min；5. 蒸發(fā)：電阻式蒸發(fā)電極（2對）   功率：2KW；配備1套數顯蒸發(fā)電源，可對兩組蒸發(fā)源進行切換使用。

6. 開啟方式：正面開門結構，便于換絲及裝料；7. 真空系統：機械泵真空系統（機械泵+分子泵系統選配）；

8. 水冷循環(huán)系統 0.5P；

設備結構介紹：

該設備由真空室、真空機組和電氣系統組成

1. 真空室

圓形形腔體，側部抽氣，正面開門。不銹鋼材質，配φ100觀察窗（含防污擋板）、預抽接口、充氣接口；內部有底板、蒸發(fā)源（兩組蒸發(fā)源相互隔離避免交叉污染），蒸發(fā)源上配有手動擋板裝置等；

1. 真空系統及進氣

采用110L分子泵+4L旋片式機械泵。采用真空波紋管連接，配有復合式數顯真空測量儀表。

可根據需要選配流量計，用于進氣流量精確控制。

1. 電氣系統

電氣系統包括真空機組控制、蒸發(fā)與烘烤控制、真空測量控制等部分組成。有安全互鎖機構，有效防止誤操作發(fā)生。系統配有1套蒸發(fā)電源，通過切換選擇上電。

1. 膜厚測量裝置：采用石英晶振膜厚儀及水冷探頭一套（選配）。

蒸發(fā)示意圖

氣路原理圖