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廣電計(jì)量檢測(cè)集團(tuán)股份有限公司

殘余應(yīng)力測(cè)試儀器

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱南通中旭電子有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2023/9/1 18:15:38
  • 訪問(wèn)次數(shù)278
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南通中旭電子有限公司位于長(zhǎng)江之濱,是一家專業(yè)從事無(wú)損檢測(cè)設(shè)備設(shè)計(jì)、開發(fā)、生產(chǎn)、銷售和技術(shù)服務(wù)的高科技企業(yè)。公司成立以來(lái),已成功開發(fā)出全數(shù)字超聲波探傷儀、超聲波測(cè)厚儀、硬度計(jì)、磁粉探傷系統(tǒng)等無(wú)損檢測(cè)產(chǎn)品。同時(shí)代理國(guó)內(nèi)外公司無(wú)損檢測(cè)及理化檢驗(yàn)設(shè)備(平板探測(cè)器,X射線DR數(shù)字成像系統(tǒng)、殘余應(yīng)力測(cè)試系統(tǒng)、、全譜火花直讀光譜儀、手持式熒光光譜儀、拉曼光譜儀,X射線熒光光譜儀,傅里葉紅外光譜儀,可視化超聲波檢漏儀,露點(diǎn)儀,氣體流量計(jì),壓縮空氣質(zhì)量檢測(cè)儀,激光清洗打標(biāo)機(jī)等)為中國(guó)地區(qū)各領(lǐng)域客戶提供進(jìn)口理化高精度分析儀器、檢測(cè)儀器、計(jì)量設(shè)備、實(shí)驗(yàn)室設(shè)備及配套的耗材和配件 2018年成為韓國(guó)ATLAIM&PIXXGEN工業(yè)平板探測(cè)器中國(guó)代理商。 2021年成為德國(guó)CS instruments全系產(chǎn)品(流量計(jì),露點(diǎn)儀,圖表記錄儀,空氣質(zhì)量檢測(cè)儀,超聲波檢漏儀等)中國(guó)代理商。自動(dòng)對(duì)焦激光清洗機(jī),激光清洗打標(biāo)二合一,標(biāo)準(zhǔn)型激光清洗生產(chǎn)廠家 公司所有員工都是從業(yè)十多年的專業(yè)人士,豐富的經(jīng)驗(yàn)為產(chǎn)品的生產(chǎn)和銷售奠定了基礎(chǔ)。目前,中旭在全國(guó)有20多個(gè)集銷售、服務(wù)于一體的分銷商。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用於航天航空、鍋爐壓力容器、汽車船舶、電力、石化、鋼鐵、鐵路、建筑等行業(yè),以、穩(wěn)定性高、技術(shù)服務(wù)精準(zhǔn)贏得了客戶的好評(píng)與信賴。
X射線是表面殘余應(yīng)力測(cè)定技術(shù)中為數(shù)不多的無(wú)損檢測(cè)法之一,是根據(jù)材料或制品晶面間距的變化測(cè)定應(yīng)力的,至今仍然是研究得廣泛、深入、成熟的內(nèi)應(yīng)力測(cè)量方法之一,被廣泛的應(yīng)用于科學(xué)研究和工業(yè)生產(chǎn)的各領(lǐng)域
殘余應(yīng)力測(cè)試儀器 產(chǎn)品信息


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X射線是表面殘余應(yīng)力測(cè)定技術(shù)中為數(shù)不多的無(wú)損檢測(cè)法之一,是根據(jù)材料或制品晶面間距的變化測(cè)定應(yīng)力的,至今仍然是研究得廣泛、深入、成熟的內(nèi)應(yīng)力測(cè)量方法之一,被廣泛的應(yīng)用于科學(xué)研究和工業(yè)生產(chǎn)的各領(lǐng)域。然而長(zhǎng)期以來(lái),大家使用的都是基于一維探測(cè)器的測(cè)量方法。2012年日本Pulstec公司開發(fā)出世界基于全二維探測(cè)器技術(shù)的新一代X射線殘余應(yīng)力分析儀——μ-X360n,將利用X射線研究殘余應(yīng)力的測(cè)量速度和精度推到了一個(gè)全新的高度,設(shè)備推出不久便得到業(yè)界的廣泛好評(píng)。

相較于傳統(tǒng)的X射線殘余應(yīng)力測(cè)定儀,新一代μ-X360n便攜式X射線殘余應(yīng)力分析儀具有以下優(yōu)點(diǎn):

更快:二維探測(cè)器一次性采集獲取完整德拜環(huán),單角度一次入射即可完成測(cè)量,全過(guò)程平均約90秒。

更精確:一次測(cè)量可獲得500個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)進(jìn)行殘余應(yīng)力數(shù)據(jù)擬合,結(jié)果更精確。

更輕松:無(wú)需測(cè)角儀,單角度一次入射即可,復(fù)雜形狀和狹窄空間的測(cè)量不再困難。

更方便:測(cè)量精度高,無(wú)需冷卻水,野外工作無(wú)需外部供電。

更強(qiáng)大:具備區(qū)域應(yīng)力分布測(cè)量成像(Mapping)功能,晶粒大小、材料織構(gòu)、殘余奧氏體分析等功能。

傳統(tǒng)點(diǎn)/線探測(cè)器和全二維面探測(cè)器原理對(duì)比:


傳統(tǒng)的點(diǎn)/線探測(cè)器技術(shù)

全二維面探測(cè)器技術(shù)

——通過(guò)測(cè)量應(yīng)力引起的衍射角偏移,從而算出應(yīng)力大小。測(cè)量時(shí)需要多次(一般5-7次)改變X射線的入射角,并且調(diào)整一維探測(cè)器的位置找到相應(yīng)入射角的衍射角
——施加應(yīng)力后,通過(guò)測(cè)角儀得到衍射角發(fā)生變化的角度,從而計(jì)算得到應(yīng)力數(shù)據(jù)

——單角度一次入射后,利用二維探測(cè)器獲得完整德拜環(huán)。通過(guò)比較沒(méi)有應(yīng)力時(shí)的德拜環(huán)和有應(yīng)力狀態(tài)下的變形德拜環(huán)的差別來(lái)計(jì)算應(yīng)力下晶面間距的變化以及對(duì)應(yīng)的應(yīng)力
——施加應(yīng)力后,分析單次入射前后德拜環(huán)的變化,即可獲得全部殘余應(yīng)力信息


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