環(huán)保在線>產(chǎn)品庫(kù)>儀器主類(lèi)>分析儀器>能譜儀>>ESCALAB XI+ X 射線光電子能譜儀

ESCALAB XI+ X 射線光電子能譜儀

參考價(jià)	面議

參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱(chēng)上海禹重實(shí)業(yè)有限公司
品牌
型號(hào)
所在地
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2023/8/13 17:01:41
訪問(wèn)次數(shù)230

產(chǎn)品標(biāo)簽:

在線詢(xún)價(jià)收藏產(chǎn)品點(diǎn)擊查看電話

索取相關(guān)資料

公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

禹重科技(UZONGLAB)是一家立足華東，以拓展全國(guó)市場(chǎng)為主的進(jìn)口儀器貿(mào)易和技術(shù)咨詢(xún)服務(wù)公司，下設(shè)三個(gè)事業(yè)部和一個(gè)中心，即分析儀器事業(yè)部、標(biāo)耗備件事業(yè)部、大客戶(hù)項(xiàng)目部、以及中禹聯(lián)重檢測(cè)技術(shù)中心。　　作為T(mén)hermo Science(賽默飛)、ZEISS(蔡司)、 Zwick(茲維克)和INNOVATEST(軼諾)品牌的核心代理商，禹重科技?(UZONGLAB)將*的分析測(cè)試前沿技術(shù)和產(chǎn)品帶給國(guó)內(nèi)客戶(hù)，為高校、科研院所、政府機(jī)構(gòu)以及材質(zhì)工業(yè)過(guò)程控制等行業(yè)，提供金屬和非金屬材料的成分分析儀器、表面分析儀器、硬度和力學(xué)設(shè)備以及樣品前處理平臺(tái)等儀器產(chǎn)品，同時(shí)提供標(biāo)準(zhǔn)樣品和小型試驗(yàn)設(shè)備銷(xiāo)售、材料測(cè)試咨詢(xún)等綜合服務(wù)。　　從冶金鑄造和功能材料的開(kāi)發(fā)；船舶建造和石化裝備升級(jí)換代；到汽車(chē)零部件和電子電工的可靠性測(cè)試；環(huán)境檢測(cè)和工業(yè)品品質(zhì)的不斷提升，禹重科技?(UZONGLAB)在這些方面都發(fā)揮著實(shí)實(shí)在在的作用。　　我們具備豐富的經(jīng)驗(yàn)，充分了解每個(gè)客戶(hù)的核心需求，并致力于提供Z佳的解決方案。為客戶(hù)提供更專(zhuān)業(yè)、更安全、更便捷的產(chǎn)品和服務(wù)是我們的*目標(biāo)。

展開(kāi)顯示更多內(nèi)容

，，

產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢(xún)價(jià)

ESCALAB XI+ X 射線光電子能譜儀產(chǎn)品信息

Thermo Fisher Scientific ESCALAB Xi+是**研發(fā)出的一款基于ESCALAB 250Xi產(chǎn)品后，具有可擴(kuò)展功能、多種分析技術(shù)集成化的測(cè)試手段。該產(chǎn)品通過(guò)的靈活性、完備的專(zhuān)業(yè)配置選項(xiàng)、直觀的軟件操作以及硬件配置，帶給用戶(hù)的是*****的的實(shí)驗(yàn)結(jié)果和生產(chǎn)力。強(qiáng)大的Avantage數(shù)據(jù)系統(tǒng)提供系統(tǒng)控制、數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理與系統(tǒng)運(yùn)行報(bào)告等一站式服務(wù)。
入圍**新品獲獎(jiǎng)理由：
***的成像探測(cè)器設(shè)計(jì)，用于定量XPI成像：電子倍增器和電阻陽(yáng)極探測(cè)器的雙探測(cè)器設(shè)計(jì)，可實(shí)現(xiàn)高性能的XPS采譜和高空間分辨的XPS成像的需求?？臻g連續(xù)的電阻陽(yáng)極探測(cè)器創(chuàng)新技術(shù)，一方面使得XPI成像分辨率達(dá)1um，另一方面使得XPI成像得到數(shù)據(jù)無(wú)探測(cè)器背底特征，無(wú)需背底校正，直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像結(jié)果。可選配的EDS探測(cè)器，實(shí)現(xiàn)體相分析技術(shù)和表面分析技術(shù)的結(jié)合：新設(shè)計(jì)Xi+系統(tǒng)可選配EDS探測(cè)器與俄歇電子*結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)樣品納米尺度的體相微區(qū)元素成分分析，EDS可探測(cè)微米深度的元素組成，可以用于材料深度剖析前的元素組成預(yù)判。體相敏感的EDS技術(shù)和XPS表面分析技術(shù)的結(jié)合可更直觀地用于研究合金等的表面偏析行為。標(biāo)配的反射電子能量損失譜REELS分析技術(shù)，用于彌補(bǔ)UPS能帶分析和XPS元素分析： REELS可以探測(cè)材料的能級(jí)和帶隙結(jié)果，并可用于材料中H元素含量的定量。與UPS技術(shù)結(jié)合可了解完整的價(jià)帶導(dǎo)帶信息，并彌補(bǔ)XPS、AES等技術(shù)不能檢測(cè)H元素含量的缺陷發(fā)展的系列基于Xi+的成熟準(zhǔn)原位樣品處理、制備、反應(yīng)系統(tǒng): 基于Xi+，設(shè)計(jì)的一系列成熟的ALD、MBE樣品制備系統(tǒng)，高溫高壓催化還原反應(yīng)系統(tǒng)和樣品退火系統(tǒng)，滿足不同的科研項(xiàng)目需求。

性能特點(diǎn)

配備為提供** XPS 性能而設(shè)計(jì)的單色化X射線源，確保ESCALAB Xi+ X 射線光電子能譜儀 (XPS) 微探針有**的樣品測(cè)試通量。多技術(shù)能力、一系列靈活的樣品制備室及樣品處理設(shè)備，使該儀器在解決任何表面分析問(wèn)題時(shí)都能游刃有余。利用*的 Avantage 數(shù)據(jù)采集和處理系統(tǒng)，從測(cè)試數(shù)據(jù)中挖掘盡可能多的信息。

ESCALAB Xi+ X 射線光電子能譜儀 (XPS) 微探針的特點(diǎn)：

高靈敏度能譜
小面積 XPS
深度剖析能力
角分辨 XPS
標(biāo)配離子散射能譜 (ISS)功能
標(biāo)配反射電子能量損失譜 (REELS)功能
標(biāo)配“樣品預(yù)處理”室
多技術(shù)分析的多功能性
多個(gè)樣品制備技術(shù)可選
全自動(dòng)無(wú)人值守式分析
多樣品分析
單色化X射線源

雙晶體微聚焦單色器配備一個(gè) 500 mm 直徑的羅蘭圓，使用鋁陽(yáng)極靶
樣品 X 射線光斑尺寸可選擇范圍為 200 至 900 μm
透鏡、分析儀和檢測(cè)器

透鏡/分析器/檢測(cè)器一體化使 ESCALAB 250Xi XPS 能譜儀同時(shí)具備成像和小面積 XPS 分析能力的性
兩種類(lèi)型的檢測(cè)器可以確保為每種分析提供**檢測(cè)——二維檢測(cè)器用于成像，基于通道電子倍增器的檢測(cè)器則用于需要檢測(cè)高計(jì)數(shù)率的能譜分析
透鏡配備了兩種電腦控制的光闌組件，一套視場(chǎng)光闌用于控制低至 <20 μm 的分析區(qū)域，適用于小面積分析；另一套光闌則用于控制透鏡的接收角，對(duì)于高質(zhì)量角分辨 XPS 至關(guān)重要
180° 半球型能量分析器
深度剖析

數(shù)控式 EX06 離子*是一款高性能的離子源，哪怕在使用低能離子源時(shí)也有著很好的性能
提供方位角樣品旋轉(zhuǎn)
多技術(shù)能力

可配備其他分析技術(shù)而不降低 XPS 檢測(cè)性能
使用 EX06 離子*時(shí)透鏡組和能量分析儀的電源可反向（確保離子散射能譜 (ISS) 可用）
電子*可加壓升至 1000 V，為 REELS 提供優(yōu)異的離子源
技術(shù)選項(xiàng)

非單色化 X 射線光源的XPS分析
AES（俄歇電子能譜）
UPS（紫外光電子能譜）
真空系統(tǒng)

5 mm 厚高導(dǎo)磁?金屬分析室，****提高磁屏蔽效率
與使用內(nèi)部或外部屏蔽的方法相比，屏蔽效能更佳
樣品制備

系統(tǒng)標(biāo)配一體化的快速進(jìn)樣室和制備室
額外的制備室可選
Avantage 數(shù)據(jù)系統(tǒng)

集成了測(cè)試分析的所有方面，包括儀器控制、數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理和報(bào)告生成
允許遠(yuǎn)程控制，并且可輕松與第三方軟件交互（例如 Microsoft Word）
管理從樣品載入到報(bào)告導(dǎo)出的整個(gè)分析過(guò)程