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廣電計量檢測集團股份有限公司

單靶磁控等離子濺射儀

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱合肥科晶材料技術(shù)有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2023/7/7 19:18:18
  • 訪問次數(shù)217
產(chǎn)品標簽:

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合肥科晶材料技術(shù)有限公司成立于1997年,是合肥物質(zhì)科學研究院的下屬企業(yè)。(更多內(nèi)容請點擊“企業(yè)展示中心”) 公司目前主要從事氧化物晶體(A-Z)系列材料研發(fā)生產(chǎn)、濺射靶材制備和材料實驗室及電池研發(fā)全套設(shè)備。公司從成立之初研發(fā)高溫超導薄膜基片大尺寸LaAlO3單晶做起,目前MgAlO4、NdGaO3、LSAT、3英寸LaAlO3等晶體是行業(yè)供應商。設(shè)備研發(fā)的各種高溫爐,大尺寸高溫高壓爐,熱等靜壓爐,單晶生長爐等,用于石墨烯、高通量、蒸發(fā)鍍膜、高溫超導薄膜、超導塊材和線材的制備設(shè)備,涉及新能源材料,電池制備等成套設(shè)備,并為科研工作者提供材料研究解決方案,已經(jīng)成為企業(yè)。(更多內(nèi)容請點擊“根據(jù)應用尋找設(shè)備”) 公司先后被認定為國家“企業(yè)”,安徽省企業(yè)技術(shù)中心,安徽省“專精特新”企業(yè),合肥市工業(yè)設(shè)計中心等榮譽稱號;公司材料實驗室被認定為安徽省光電晶體材料裝備技術(shù)工程研究中心。產(chǎn)品遠銷美國斯坦福、麻省理工學院、哈佛大學、英國牛津大學,新加坡國立大學等世界所有高校、蘋果、惠普、巴斯夫、特斯拉等國際公司,以及國內(nèi)985、211高校、中科院物理所、核能所等高??蒲性核彩俏夜局覍嵱脩簟#ǜ鄡?nèi)容請點擊“客戶案例”) 公司自成立以來,十分重視科技創(chuàng)新和產(chǎn)學研合作工作,尤其是把“納天錫人士,鑄科晶偉業(yè)”作為重要工作來抓,董事長江曉平博士親自帶領(lǐng)一支高素質(zhì)和強大創(chuàng)造力的高水平人才團隊,并與合肥物質(zhì)科學研究院等高??蒲性洪_展緊密的產(chǎn)學研合作,全力打造材料研發(fā)設(shè)備的品牌,竭力為科學進步和社會發(fā)展作出貢獻??凭гO(shè)備公司自2002年涉足材料制備研發(fā)設(shè)備,十多年來不斷追求產(chǎn)品品質(zhì),力求精益求精。從混料球磨、壓片成形、高溫燒結(jié)到樣品切割、磨拋成相,再到薄膜制備和電池制備,公司不斷研發(fā)制造用于材料制備的全套解決方案,全面滿足各領(lǐng)域產(chǎn)品制備需求,努力為客戶打造一站購齊式服務(wù)體驗??凭Ьw與材料1997年公司成立之初,主要研發(fā)生產(chǎn)超導基片。經(jīng)過二十三年的發(fā)展,目前自主研發(fā)的MgAlO4、NdGaO3、LSAT、3英寸LaAlO3等晶體是世界供應商。從晶體到靶材、薄膜,再到蒸發(fā)料、粉料、金屬絲箔及納米材料,上千種材料的豐富供給,構(gòu)建起行業(yè)的科研材料產(chǎn)品體系。需求全套解決方案為客戶提供產(chǎn)品的成套解決方案,全工藝鏈的產(chǎn)品以及非標定制方案,努力為客戶提供一站購齊式服務(wù)。另外還為客戶提供實驗室解決方案,幫助客戶制定實驗室規(guī)劃,與輔助設(shè)備建議。應用技術(shù)實驗室安徽省級企業(yè)技術(shù)中心,是一個集材料制備、樣品檢測及技術(shù)服務(wù)于一體的多功能共享實驗室,客戶可以使用科晶實驗室進行材料制備及檢測、工藝探索和應用技術(shù)交流,同時實驗室團隊可以為客戶提供工藝培訓,實習,實驗代加工,聯(lián)合項目等多種服務(wù)項目。售后維修從產(chǎn)品支持到售后保障,科晶公司專業(yè)的售后服務(wù)團隊全年不間斷的為客戶提供線上,線下維修服務(wù),全面保證客戶設(shè)備的正常使用,做到購買產(chǎn)品,終身維護。實驗安全科晶重視客戶的實驗安全,針對一線設(shè)備使用的科研人員,提供全公益性質(zhì)的線上或線下,標準或定制的設(shè)備與藥品技術(shù)支持與培訓,以及針對性的安全相關(guān)設(shè)備開發(fā)。
管式爐選型
型號: VTC-16-D 產(chǎn)品概述: VTC-16-D是一款小型直流磁控等離子濺射鍍膜儀,其靶頭直徑為2英寸,并且樣品臺高度可調(diào)節(jié)。此款鍍膜儀主要是制作一些金屬鍍膜。
單靶磁控等離子濺射儀 產(chǎn)品信息
設(shè)備名稱與型號

單靶磁控等離子濺射儀VTC-16-D

特點

· 體積小巧,操作簡單,易上手

· 擁有小型磁控靶頭,可以鍍金、銀、鉑等金屬

基本參數(shù)

·輸入電源:220V,50/60HZ

· 功率:<1000W

· 濺射電流:0-80mA可調(diào)

· 輸出電壓:DC 500V

濺射腔室

· 石英腔室尺寸:外徑φ166mm×內(nèi)徑φ150mm×高150mm

· 采用氟膠O型圈密封

· 法蘭蓋上安裝了一個可手動操作的擋板,用于靶材的預濺射。一個φ6.35的卡套接頭為進氣口,用于連接進氣管。一個手動放氣閥用于往石英腔體內(nèi)部充入空氣。

· 一個不銹鋼網(wǎng)罩罩住整個石英腔體,以屏蔽等離子體

圖片1.png

·通過調(diào)節(jié)殼體右側(cè)的微量精密調(diào)節(jié)閥控制進入石英腔體內(nèi)部工作氣體的流量,從而達到調(diào)節(jié)腔體內(nèi)部的真空度

· 通過調(diào)節(jié)殼體右側(cè)的電位器,實現(xiàn)對濺射電流大小的控制。

圖片2.png   圖片3.png

靶頭與靶材

· 一個2英寸不帶水冷的磁控濺射靶頭 ,磁控濺射靶頭的使用溫度為80度,超過80度磁控靶頭會失去磁性而不能工作。

· 濺射時間 :1-120s可調(diào)                           

· 標配一塊銅靶

· 靶材尺寸要求:φ2*0.5-5mm厚度

· 適合濺射Au,Ag,Cu,等金屬(可在我公司選購)

樣品臺

· 一個上下高度可調(diào)的樣品臺,樣品臺與靶材之間的可調(diào)距離為25-70mm

· 樣品臺尺寸:φ2英寸

· 樣品臺可以選配加熱功能,加熱溫度500度;

圖片4.png    圖片5.png

皮拉尼真空計

· 測量范圍:1*10-4 mbar—1000 mbar(1*10-4—750 torr)

· 準確度:1000mbar—20 mbar(讀數(shù)的30%)

           20—0.002mbar (讀數(shù)的2%)

· 重復性:20—0.002mbar (讀數(shù)的2%)

· 使用濕度:30℃環(huán)境下≤80%  40℃環(huán)境下≤50%無冷凝氣體;

· 使用溫度:5℃—60℃

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薄膜測厚儀(選配)

· 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實時監(jiān)測薄膜的厚度,分別率為0.10 ?

· LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)

圖片7.png   圖片8.png

真空系統(tǒng)(選配)

· 型號:VRD-8

· 抽氣速率:2.2 L/S

· 電機功率:370 W

· 極限壓強:5×10-1Pa(不帶負載)

· 實際壓強:≤5 Pa(冷態(tài)下機械泵抽20分鐘)

· 如果想要獲得更高的真空度(10-5toor or better)可選購國產(chǎn)或進口高真空機組

圖片9.png

設(shè)備使用要求

· 為了達到理想的薄膜厚度,可進行多次濺射鍍膜

· 在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材,基片和樣品臺的潔凈

· 需要達到薄膜與基底良好結(jié)合,則在濺射前清潔基材表面

外形尺寸

500*350*550mm(長*寬*高)

圖片10.png

重量

20KG(不包含真空泵、水冷設(shè)備)

質(zhì)保

· 一年保修,終身技術(shù)支持

1、耗材部分入加熱元件、石英管、樣品坩堝等不包含在保修范圍內(nèi)

2、因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成損壞不在保修范圍內(nèi)

15700106413
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