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小型高溫蒸鍍儀

參考價 36800
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱鄭州科探儀器設備有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號KT-Z1650CV
  • 所  在  地鄭州市
  • 廠商性質生產廠家
  • 更新時間2023/4/13 15:21:54
  • 訪問次數221
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鄭州科探儀器設備有限公司是集開發(fā)、制造、經營為一體的材料設備創(chuàng)新型企業(yè),如今公司的產品已經遍布國內大多數實驗室 及學院,科探儀器已經成為老師 同學和信任的品牌。   公司以科技創(chuàng)新為主,服務社會為宗旨,積極設計開發(fā)新型材料制備設備,奉獻于教育和科學,經過長期的研發(fā)和不斷地技術積累,擁有熱工,制造,控制相關技術10余項,為化學,物理,材料,電子,高分子工程,新材料制備和研發(fā)領域的科學研究提供了精良設備。公司通過和院校老師 同學強強聯(lián)合,形成了有效的信息,技術交流平臺,為科探儀器了解市場需求提供了強有力的支持!

    目前公司已研發(fā)生產產品十多個系列幾十款產品,產品囊括實驗電爐   CVD供氣系統(tǒng)   等離子清洗機   小型離子濺射儀   小型蒸鍍儀  石英管真空封口   半導體等。 主要適用于科研院校及工礦企業(yè)在新材料、新能源等領域物理特性及化學特性的研究,廣銷于各大院校,及材料研究所。

    公司與國內高校,科研院所有多層次的合作關系,建有開放實驗室,相關領域的教授、工程師、博士參與公司產品的研究和開發(fā)。我們秉承公司的發(fā)展理念,依靠嚴謹的技術研發(fā)能力,科學合理的生產工藝,精益求精的制造要求,全心全意做好產品質量和服務工作,科探儀器時刻懷著一顆真誠的心期待與您的合作。

 

探針臺、鍍膜儀、封管機、清洗機
產地 國產
小型高溫蒸鍍儀是鄭州科探儀器設備有限公司生產,臺式設計、軟件自動操控、高性價比,非常適合實驗室科研使用。 通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面。軟件自動操控、工藝儲存,高性價比,非常適合實驗室科研使用。稱為熱蒸發(fā)鍍膜,熱蒸發(fā)鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等。
小型高溫蒸鍍儀 產品信息

一、技術原理:  

(1)小型高溫蒸鍍儀,臺式設計、軟件自動操控、高性價比,非常適合實驗室科研使用。  

(2)通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面,稱為熱蒸發(fā)鍍膜,熱蒸發(fā)鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下為蒸發(fā)鍍膜設備的示意圖。  


二、真空度越高越不易氧化越接近金屬本色:  

★玻璃鐘罩真空腔室,最直觀的蒸發(fā)狀態(tài)和薄膜沉積現象觀察;  

★復合分子泵和直聯(lián)旋片泵,大抽速準無油真空系統(tǒng)(分子泵抽速≥400L/S);

★兩組水冷式蒸發(fā)電極,可長時間穩(wěn)定工作,兼容金屬材料與有機材料的蒸發(fā)源設計;

★專業(yè)真空蒸發(fā)電源,數顯工作電流和電壓,恒流輸出;  

★可定制一體化高精度刻蝕掩膜板;  

★襯底可選擇加熱或水冷,源基距≥300mm;  

★可調速旋轉靶臺使薄膜更均勻;  

★可沉積金屬(Au,Ag,Al,Ca,Cu,Mg,Fe,Cr,Ni等)、非金屬、化合物(MoO3,LiF等)及有機物材料,可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜;  

★7寸顯示器定時定點調節(jié)電流,達到控制功率效果;  

★具有記憶儲存功能,直接調出已儲存的數據進行鍍膜達到同樣工藝效果;  

★配置了靶臺擋板,可手動調節(jié)或自動調節(jié)擋板,及時遮擋樣品,保證樣品效果;


三、技術支持&服務:  

1.技術支持:在合同簽訂之前,我們的專業(yè)工程師會在充分了解客戶需求的前提下,為客戶做出*的選型和方案設計,使客戶充分了解并理解產品技術指標、性能用途、使用場合、安全注意事項等,以幫助客戶做出正確的選擇。

2.安裝與培訓:在產品使用前,我們會派專業(yè)工程師為您提供現場技術支持、培訓及演示服務。  

3.產品質保:我們對產品提供12個月的質保期,在質保期內發(fā)生設備或配件損壞由公司負責賠償或免費維修。(耗材和易損件除外)  

4.終身維護:我們對提供的產品提供終身服務,對于超過質保期限的維修、維護僅收取材料費,免除一切人工費用。

      image.png  

以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖

637858771737832260197.png   原樣品沒有鍍膜                       637858771732996198687.png  115A 100秒 機械泵

637858771732840196319.png115A 100秒 分子泵抽12分鐘    637858771732684194803.png  115A 120秒 分子泵抽20分鐘

637844882350281266506.jpg

四、小型高溫蒸鍍儀技術資料:

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

加熱方式

數字式功率調整器

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

最1大功率

1200W

最1大輸出電壓電流

電壓≤12V  電流≤120A

真空度

機械泵 ≤5Pa5分鐘)   分子泵≤10^-3Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm

樣品臺

可旋轉φ62  (最1大可安裝φ50基底)

樣品臺轉速

8轉/分鐘

樣品蒸發(fā)源調節(jié)距離

70-140mm

蒸發(fā)溫度調節(jié)

1800

支持蒸發(fā)坩堝類型

鎢絲藍  帶坩堝鎢絲藍  鎢舟  碳繩  

預留真空接口

KF25抽氣口  KF16真空計接口  KF16放氣口 6mm卡套進氣口

可選配擴展

機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa  

數顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa

分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa



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