FEI Verios XHR SEM 掃描電子顯微鏡是 FEI *的 XHR（分辨率）SEM 系列的第二代產(chǎn)品。在*半導體制造和材料科學應用中，它可在 1 至 30 kV 范圍內(nèi)提供亞納米量級分辨率以及增強的對比度，滿足材料精密測量所需，同時又不會削弱傳統(tǒng)掃描電子顯微鏡 (SEM) 所具有的高吞吐量、分析能力、樣本靈活性和易用性等優(yōu)勢。
FEI Verios XHR SEM 掃描電子顯微鏡Verios的生命科學應用
觀測敏感的生物樣本時，過高的成像電壓帶來的電子束會損傷樣本，從而無法在細胞研究中觀測關(guān)鍵細節(jié)。Verios XHR 掃描電子顯微鏡 (SEM) 可在 1kV 的電子束電壓下工作，因而能zui大限度減少樣本干擾，同時又不會削弱分辨率和對比度。生物研究人員現(xiàn)在可以處理大量敏感的生物樣本，并迅速生成高分辨率圖像，從而洞察細胞器的關(guān)鍵功能和過程。
Verios XHR SEM 優(yōu)勢
全新的高對比度檢測器 對敏感的生物樣本進行*成像
電子束減速 在極低的電壓下提供高分辨率成像和高表面靈敏度
電子束熄滅裝置 限制敏感的生物樣本的劑量
靜電掃描 限度減少圖像失真，并改善成像速度，從而進一步提高工作效率和質(zhì)量
Verios 的電子工業(yè)應用
Verios XHR SEM 推出了全新的檢測器硬件，將 SEM 的觀測能力進一步拓展至 20 nm 亞納米量級半導體器件。Verios 可提供*的低電壓 SEM 分辨率和材料對比度，能夠讓半導體工藝控制實驗室測量對電子束敏感的材料以及無法使用傳統(tǒng) SEM 儀器成像的極小結(jié)構(gòu)。 Verios 還包括一些易于使用的新功能，能夠為 22 nm 技術(shù)節(jié)點及以下的半導體結(jié)構(gòu)提供的每樣本成像和測量成本。
Verios 的材料科學應用
對材料科學家來說，Verios 可以將亞納米表征拓展到當下正在開發(fā)的全新材料（例如催化劑顆粒、納米管、孔隙、界面、生物對象和其他納米量級結(jié)構(gòu)），從而讓他們獲得重要的新發(fā)現(xiàn)。無需轉(zhuǎn)而采用 TEM 或其他成像技術(shù)便可獲得高分辨率、高對比度圖像。Verios 可靈活用于各類研究應用，能夠容納全尺寸晶圓或冶金樣本之類的大樣本。您可以在高電流模式下執(zhí)行快速分析，也可以開展精確的原型設(shè)計應用，例如電子束感應式材料直接沉積或光刻。
