GDA 650 HR/GDA 150 HR的成功推出，意味著以CCD檢測(cè)器為代表技術(shù)的輝光放電光譜儀進(jìn)入了新的高度。裝備有一代的CCD固態(tài)檢測(cè)器，與高分辨率光學(xué)系統(tǒng)匹配。新一代的CCD檢測(cè)器不但具備傳統(tǒng)光電倍增管的低噪聲、寬動(dòng)態(tài)范圍的特點(diǎn)，而且還具備優(yōu)異的分辨力和全譜數(shù)據(jù)采集能力，特別適合同時(shí)需要高精度檢測(cè)和分析靈活性的用戶(hù)。

  高分辨率CCD光學(xué)系統(tǒng)使得GDA 650 HR/GDA 150 HR具備無(wú)限的擴(kuò)展能力，允許使用者在任何分析方法下任意擴(kuò)展和增加任何分析通道。
  這種靈活性允許進(jìn)行快速的基體總量和涂鍍層分析，所有元素，包括O，N，C等非金屬元素均可進(jìn)行定量分析。

  - 在含量-深度測(cè)量中，分析深度可達(dá)200um以上，層分辨率可達(dá)納米級(jí)。

  - GDA 650 HR/GDA 150 HR也可進(jìn)行基體總量分析，尤其對(duì)于復(fù)雜基體，具備優(yōu)異的線(xiàn)性校準(zhǔn)曲線(xiàn)。檢出限可達(dá)ppm級(jí)。
  - GDA 650 HR/GDA 150 HR裝備有一代的輝光激發(fā)光源，濺射直徑從1mm至8mm。采用通用樣品夾具(USU)，也可進(jìn)行小樣品和異形樣品的分析，無(wú)需更換特殊電極。
  - GDA 650 HR也可選裝配置脈沖式射頻光源(選裝件)，用于分析非導(dǎo)體材料。
  - 采用脈沖式射頻光源后，可分析非導(dǎo)體、熱敏感樣品，如：陶瓷、玻璃、有機(jī)涂層、有機(jī)薄膜。還可選裝配置特殊樣品轉(zhuǎn)移室(選裝件)，用于分析極薄的薄膜和在空氣中易氧化的薄膜。

激發(fā)光源：
- 同一激發(fā)光源允許安裝直徑為1mm至8mm電極，從而保證優(yōu)秀的穩(wěn)定性和重復(fù)性
- 高效的樣品直接冷卻?？芍苯臃治鰺崦舾袠悠?、極薄的金屬薄膜和有機(jī)薄膜。如可直接分析50um的不銹鋼薄膜
- 優(yōu)化的氬氣流量控制，可以同時(shí)實(shí)現(xiàn)低檢出限和高深度分辨率
- 專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)的自動(dòng)清掃裝置，保證了高精度、高重復(fù)性測(cè)量樣品分析厚度45mm，最小厚度50um
- 程序自動(dòng)控制的直流光源(DC)，電壓可達(dá)1500V，電流250mA
- 程序自動(dòng)控制的射頻光源(RF)，功率150W，電壓、電流自動(dòng)監(jiān)控，實(shí)時(shí)等離子自動(dòng)調(diào)節(jié)、脈沖工作模式(選裝件、僅GDA 650有效)
- 選裝件：自動(dòng)進(jìn)樣器，程序控制100位

光學(xué)系統(tǒng)：
- 高性能CCD光學(xué)系統(tǒng)，光譜范圍120--800nm
- 光譜分辨率優(yōu)于20pm(FWHM)
- Paschen-Runge光學(xué)系統(tǒng)，焦距400mm
- 全息原刻光柵，2400線(xiàn)/mm
- 光室恒溫控制，儀器穩(wěn)定性?xún)?yōu)異
- 可無(wú)限制的配置分析通道，所有元素同時(shí)檢測(cè)
- 方便易操作的透鏡清潔，可立即進(jìn)行分析

- CCD檢測(cè)器的靈敏度可自動(dòng)調(diào)節(jié)
 

真空系統(tǒng)：
- 全不銹鋼殼體，可充分保證痕量元素的分析，尤其對(duì)于N元素分析
- 光室真空采用二級(jí)旋轉(zhuǎn)葉片真空泵，噪音<50dB
- 單泵設(shè)計(jì)，同時(shí)運(yùn)用于光源和光室
- 特殊的旋片真空泵，可限度的減少C，H元素的污染
- 內(nèi)置安全閥設(shè)計(jì)，以避免突然斷電對(duì)旋轉(zhuǎn)葉片泵的損害
- 選裝件：渦輪分子泵

- 選裝件：旋轉(zhuǎn)葉片真空泵可用無(wú)油真空泵替代
 

WinG DOES軟件：
- Windows平臺(tái)運(yùn)行
- 使用界面簡(jiǎn)單、易懂，分級(jí)管理和操作
- 功能強(qiáng)大
- 方法建立簡(jiǎn)便，在線(xiàn)指導(dǎo)
- 校準(zhǔn)樣品管理，樣品添加
- 多種校準(zhǔn)模式
- 基體總量元素測(cè)量校準(zhǔn)
- QDP定量分析校準(zhǔn)
- 用戶(hù)定制測(cè)量報(bào)告模式
- 數(shù)據(jù)處理和再處理功能
- 多種格式數(shù)據(jù)輸出
- 分析過(guò)程中界面語(yǔ)言切換

應(yīng)用：
- 熱處理
   精確測(cè)量所關(guān)心元素的含量-深度分布，定性、定量檢測(cè)表面污染物、夾雜物和物相比例
- 涂鍍層
   可獲得涂鍍層完整的化學(xué)組分信息、層厚度，元素含量-深度分布。非導(dǎo)體涂鍍層，如：油漆、釉等可采用RF光源分析
- 硬質(zhì)合金層
   快速分析硬質(zhì)合金層和熱處理工件的滲層化學(xué)組分
- 陶瓷
   采用RF光源可精確可靠的測(cè)量
- 化學(xué)組分
   精確測(cè)量化學(xué)元素含量
   高精度、高重復(fù)性檢測(cè)
   快速分析：<60s
   可分析從H至U的所有元素，檢測(cè)范圍從ppm至99%
- 太陽(yáng)能電池薄膜
   檢測(cè)太陽(yáng)能光伏電池薄膜中化學(xué)元素含量分布，如：Cu(In，Ga)Se，采用RF光源可精確可靠的測(cè)量

輝光放電光譜儀主要應(yīng)用領(lǐng)域：
- 汽車(chē)制造及零部件
- 金屬加工、制造
- 冶金
- 航空、航天
- 電子工業(yè)
- 玻璃、陶瓷
- 表面處理：化學(xué)氣相沉積、物理氣相沉積等
- 電鍍
- 光伏電池、鋰電
- 科學(xué)研究