一、 簡介

J.A.Woollam公司于1987年由Woollam教授等創(chuàng)辦。公司是由內布拉斯加州立大學的科研成果為基礎衍生而來的專業(yè)生產光譜型橢圓偏振測量儀的廠商，公司研發(fā)、生產多種不同規(guī)格型號的橢偏儀。

J.A.Woollam公司擁有超過100項的橢偏patent技術，確保公司的技術處于地位。已有2000多套橢偏儀已被安裝到世界各地，廣泛應用于各種領域的科研與生產當中。RC2是J.A.Woollam公司的的光譜橢偏儀產品。采用雙旋轉補償技術，可測量穆勒矩陣的全部16個單元。

二、 技術特點

設備特點：采用雙旋轉補償器，高精度快速測量。

采用消色散的補償器，性能更優(yōu)化。

的光源，計算機可控輸出光強。

的光束對準系統(tǒng)，數(shù)據(jù)測量更準確。

波長范圍： 193-1690nm（超過1000個波長點）

變角范圍： 45°-90°（水平樣品臺）

           20°-90°（垂直樣品臺）

測量速度：典型數(shù)據(jù)全光譜測量不超過1秒。

自動樣品臺尺寸：8/12寸多種樣品臺可選

三、 應用

單層膜或多層膜疊加、單一膜層及液態(tài)膜層，測量薄膜厚度、反射率和透射率、折射率等光學常數(shù)。

半導體薄膜：光刻膠、工藝薄膜、介電材料

液晶顯示：OLED、氧化層厚度、ITO

光學鍍膜：硬涂層厚度、減反涂層

高分子薄膜：PI、PC