DH7003電化學(xué)工作站
DH7003電化學(xué)工作站是雙恒電位儀，測(cè)試系統(tǒng)由DH7003電化學(xué)工作站(恒電流儀/恒電位儀/交流阻抗儀)和DH7003控制數(shù)據(jù)分析軟件組成,DH7003電化學(xué)工作站包含兩個(gè)通道，通道1可作為單通道獨(dú)立使用，覆蓋所有實(shí)驗(yàn)方法，通道1和通道2同時(shí)使用可組合成雙恒電位儀。DH7003電化學(xué)工作站有四大模塊，分別是電分析、腐蝕、交流阻抗、能源模塊，廣泛運(yùn)用于電極過程研究、化學(xué)電源、電鍍、電解、相分析、金屬腐蝕研究、電化學(xué)保護(hù)參數(shù)測(cè)定等方面。
產(chǎn)品詳情
DH7003電化學(xué)工作站
1、DH7003基本參數(shù)
(1)工作站常規(guī)參數(shù)
尺寸：長(zhǎng)×寬×高：330×230×130mm
重量： 5.2kg
濕度： 0-80%
理想溫度： 23℃
電源： 220V，50-60Hz
電極線：四、五電極（加接地線、有接地模式）
(2) 計(jì)算機(jī)配置
通訊接口：以太網(wǎng)
操作系統(tǒng)：Windows XP Professional 或Windows 7、8、10，32、64位計(jì)算機(jī)
PC配置： Pentium 4（1GHz）/2GB 高數(shù)據(jù)采集需要大內(nèi)存（至少需求）
2. 功能參數(shù)
(1)數(shù)據(jù)采集
數(shù)據(jù)采集：2×18bit，500kHz
時(shí)間分辨率：2μs（500kHz ）
噪音濾波：自動(dòng)
(2)功率放大器（CE）
輸出電壓：±13V
輸出電流： 2通道之和±2A，單通道±1A
恒電位帶寬：1MHz
穩(wěn)定性設(shè)定：高速/高穩(wěn)定性；10μHz-1MHz
切換速度： 10V/μs
上升時(shí)間：≤500ns
(3)電位控制（恒電位模式）
施加電位范圍：±10V
施加電位分辨率：300μv(±10V)；30μV(±1V)；3μV (±100mV)
施加電位精度：±0.1%
掃速：6000V/s
掃描范圍及精度：±10V/300μV
(4)電流控制（恒電流模式）
施加電流范圍：2通道之和±2A，單通道±1A±1A
施加電流分辨率：±1/30000x 全量程
施加電流精度：視讀精度：±0.1%
電流量程/分辨率：±1A/30μA
最小電流量程/分辨率：±1nA/30fA
(5)差分靜電計(jì)
輸入范圍：±10V
帶寬：≥10MHz（3dB）
輸入阻抗：≥1012Ω
漏電流：(25℃)≤1pA
CMRR： 60dB at 100KHz
(6)電位測(cè)量
電位測(cè)量范圍：±10V
最小電位分辨率： 760nV
電位精度： 滿量程0.1%±1mV
(7)電流測(cè)量
電流測(cè)量范圍： 1nA-1A（全量程自動(dòng)量程）
電流分辨率： 8fA（1nA量程）
電流精度：±0.1%
帶寬： 1MHz
帶寬噪聲濾波功能：有
(8)阻抗模塊（EIS）選件
模式：電位控制/電流控制
頻率范圍： 10μHz-1MHz
最小交流電壓幅值： 0.1mV RMS
掃描方式：線性 或 對(duì)數(shù)
（9） 反饋
正反饋和動(dòng)態(tài)iR補(bǔ)償：有
3、測(cè)試方法
DH7003測(cè)試方法主要由四個(gè)技術(shù)模塊組成，每一個(gè)技術(shù)模塊所包含的技術(shù)特點(diǎn)和分析工具都有所不同，四個(gè)技術(shù)模塊分別為用于電分析模塊、腐蝕模塊、交流阻抗模塊、能源模塊。每個(gè)模塊包含以下標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法：
（1） 電分析模塊：
開路電位
線性掃描伏安法
循環(huán)伏安法
循環(huán)伏安法（多循環(huán)）
階梯循環(huán)伏安法
階梯循環(huán)伏安法（多循環(huán)）
計(jì)時(shí)電流法
計(jì)時(shí)電位法
計(jì)時(shí)庫侖法
快速電位脈沖
快速電流脈沖
方波伏安法
差分脈沖伏安法
標(biāo)準(zhǔn)脈沖伏安法
交流伏安法
二次諧波交流伏安法
六次諧波交流伏安法
（2）腐蝕模塊：
開路電位
線性極化法
Tafel極化法
動(dòng)電位極化法
循環(huán)極化法
恒電位
電偶腐蝕
恒電流
動(dòng)電流
零電阻安培計(jì)（ZRA）
電化學(xué)噪聲
拆分式LPR
（3）交流阻抗模塊：
開路電位
控制電位EIS
控制電流EIS
（4）能源模塊：
開路電位
恒電位
恒電流
恒功率
恒電阻
電流CCDPL
功率CCD
電阻CCD
恒電流間歇滴定法
自定義充放電
（5）如客戶需要，可以增加以下方法：
多電位階躍計(jì)時(shí)電量法、多電位階躍計(jì)時(shí)電流法、控制電位電解庫侖法、氯離子濃度監(jiān)測(cè)、宏電池電流監(jiān)測(cè)、線性掃描溶出伏安法：階梯溶出伏安法方波、溶出伏安法、方波循環(huán)伏安法、半電池恒流陽極極化、器件電阻電源內(nèi)阻測(cè)量、四探針方塊電阻測(cè)量、線狀材料電阻率測(cè)量、刀型探頭方塊電阻測(cè)量、差示脈沖溶出伏安法、多電位階躍計(jì)時(shí)電位法、差分脈沖電流檢測(cè)、恒電位溶出I-t曲線、控制電位電解庫侖法、雙差分脈沖電流檢測(cè)、三脈沖電流檢測(cè)、差示常規(guī)脈沖伏安法、交流阻抗-時(shí)間、脈沖電鍍法等方法、鍍錫量測(cè)定等方法。
