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ICP-RIE 等離子體刻蝕機(jī)

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公司名稱重慶眺望科技有限公司
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更新時(shí)間2023/1/26 9:52:04
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公司介紹主營產(chǎn)品

眺望科技專注光電科技、半導(dǎo)體以及新能源行業(yè)。眺望科技自2005年成立以來, - -直致力于為客戶提供高品質(zhì)產(chǎn)品與服務(wù)。目前，眺望科技與多個(gè)國際品牌-直保持著長期合作關(guān)系,主要包括美國AJA磁控濺射、離子刻蝕、電子束蒸發(fā)等PVD設(shè)備,美國AYMONT碳化硅等寬禁帶半導(dǎo)體材料生長工藝及設(shè)備，美國Digital Matrix*電鍍設(shè)備,德國SENTECH等離子體工藝設(shè)備等，美國Film Sense多波長橢偏儀,德國ATL激光器以及徠卡LEICA光學(xué)顯微鏡等產(chǎn)品。行業(yè)應(yīng)用覆蓋半導(dǎo)體、真空鍍膜、光電科技以及材料分析等領(lǐng)域，服務(wù)范圍。眺望科技作為國際品牌代理商，依托良好的產(chǎn)品平臺和專業(yè)務(wù)實(shí)的服務(wù)團(tuán)隊(duì)，目前在國內(nèi)北京、上海、成都、重慶等城市分別設(shè)立辦事處，與國內(nèi)科研院和企事業(yè)單位也建立了良好的合作關(guān)系。我們期待能為您提供更多更專業(yè)的行業(yè)解決方案。

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產(chǎn)品簡介在線詢價(jià)

ICP-RIESI500納米結(jié)構(gòu)低損傷刻蝕由于等離子的能量分布低，從而能實(shí)現(xiàn)低損傷刻蝕和納米結(jié)構(gòu)刻蝕

ICP-RIE 等離子體刻蝕機(jī) 產(chǎn)品信息

ICP-RIE SI 500

納米結(jié)構(gòu)低損傷刻蝕

由于等離子的能量分布低，從而能實(shí)現(xiàn)低損傷刻蝕和納米結(jié)構(gòu)刻蝕。

簡單高速率刻蝕

MEMS制造工藝中，Si材料光滑側(cè)壁的高速高選擇比刻蝕，可以很容易的通過室溫或低溫工藝實(shí)現(xiàn)。

內(nèi)置ICP等離子源

平板三螺旋天線（PTSA）等離子源是SENTECH的等離子工藝系統(tǒng)。PTSA能產(chǎn)生高密度低能量分布的等離子體。

在多種材料刻蝕工藝中都能實(shí)現(xiàn)高效率耦合及穩(wěn)定起輝。