設(shè)備主要以金屬源，有機源蒸發(fā)為主體，適用于實驗室制備金屬單質(zhì)、氧化物、介電質(zhì)、半導體膜、掃描電鏡制樣等，也可用作教學及生產(chǎn)線前期工藝試驗等，整套設(shè)備操作簡便，綜合功能多，擴展空間大，適合及滿足大專院校的教學與科研工作。
蒸鍍系統(tǒng)由蒸鍍真空室腔體，金屬源鍍膜系統(tǒng)，有機源鍍膜系統(tǒng)，樣品臺系統(tǒng)，真空泵機組，膜厚檢測系統(tǒng)，設(shè)備機架和電控系統(tǒng)組成，真空室前門與手套箱對接，該設(shè)備采用了一體化的設(shè)計方案，使整套設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊、布局簡潔避免了實驗設(shè)備外觀凌亂的現(xiàn)象。
各部分的技術(shù)指標如下：
1、蒸鍍真空室腔體
a) 蒸鍍真空室腔體均為USU304優(yōu)質(zhì)不銹鋼D形前后開門結(jié)構(gòu)，真空室內(nèi)部尺寸D350*450mm（暫定），焊接前各個不銹鋼部件需進行物理，化學式表面拋光，焊接后采用電解式拋光，真空室表面潔凈美觀，真空腔體前后門均配有DN100視窗，可對真空腔體內(nèi)部進行實時監(jiān)控，并配有擋板以及防護玻璃，預防觀察窗污染；
b) 真空腔體底部安裝2套金屬源組件（含氣動擋板），5套有機源組件（含氣動擋板），1200L/S渦輪分子泵真空泵機組，2套烘烤照明系統(tǒng)以及3套水冷膜厚探頭等；
c) 頂部安裝多功能樣品臺一套，電動樣品托擋板，KF16氣動角閥（接通手套箱與真空室，通氣作用）以及其他輔助法蘭；
d) 左側(cè)安裝CF35氣動預抽角閥，KF16氣動放氣閥以及預留若干CF35法蘭；
e) 右側(cè)預留若干CF35法蘭；
f) 蒸鍍設(shè)備后側(cè)配有鉸鏈式方門，方便清洗真空腔體，真空室內(nèi)部調(diào)試，維修以及取放物品。
2、蒸鍍真空腔蒸發(fā)源：2套金屬蒸發(fā)源，5套有機蒸發(fā)源
a) 2套金屬蒸發(fā)源：配一臺1000W可控硅調(diào)壓電源，數(shù)字表顯示蒸發(fā)電源，電流調(diào)整精度0.1A（微調(diào)），通過2根銅電極連接，兩端可夾鎢、鉬和鉭舟，每個金屬蒸發(fā)源配有氣動擋板，以便隨時遮擋蒸發(fā)源；
b) 5套有機蒸發(fā)源：在源內(nèi)放置4CC石英舟，配日本導電牌SR93溫控表，精度±1℃，可以實現(xiàn)溫度或電流補償實現(xiàn)蒸鍍速率穩(wěn)定的功能，即能實現(xiàn)手動控制電流，配三臺溫控電源，有機源溫度為室溫—500度，每個有機蒸發(fā)源配有氣動擋板，以便隨時遮擋蒸發(fā)源；
c) 金屬采用陶瓷罩密封四周以及隔板分隔，有機源采用隔板分隔，避免交叉污染。
3、蒸鍍雙真空腔樣品臺系統(tǒng)：
a) 蒸鍍真空腔體樣品臺具有可升降，可旋轉(zhuǎn)，可水冷（配有熱電偶）功能；
b) 樣片托架，可安裝15*15mm樣片25片，附著掩膜板；
c) 樣片與蒸發(fā)源之間的間距為200-320mm，樣片轉(zhuǎn)速0～30轉(zhuǎn)／分連續(xù)可調(diào)；
d) 樣品臺安裝電動樣品擋板；
4、真空泵機組：
a) 通過CF200高真空氣動插板閥將真空腔體和1200L/S渦輪分子泵對接，再通過KF40高真空電磁截止閥將分子泵與9L/S機械泵對接；
b) 真空腔體和9L/S機械泵之間需要通過CF35高真空氣動角閥連接，KF40高真空電磁截止閥和CF35高真空氣動角閥和9L/S機械泵之間都需軟管之間連接。
5、膜厚檢測系統(tǒng)：
a) 采用SQC310C四通道英?？的ず駜x，膜厚儀擁有監(jiān)測膜厚速率以及累計膜厚的功能；
b) 其中2個探頭用于監(jiān)測一套金屬蒸發(fā)源和一套有機蒸發(fā)源，1個探頭用于監(jiān)測三套有機蒸發(fā)源；
6、設(shè)備機架：
設(shè)備支撐采用碳鋼40方管焊接而成獨立機架，表面噴塑，承重主體設(shè)備相關(guān)系統(tǒng)，并且可以由萬向輪移動調(diào)整為主，通過地腳定位。
7、電控系統(tǒng)系統(tǒng)：
電氣控制部分采用機架內(nèi)置；
a) 3臺有機源控制電源；
b) 1臺金屬源控制電源；
c) 蒸發(fā)源擋板控制電源；
d) SQC310C四通道英?？的ず駜x一臺，可實現(xiàn)膜厚監(jiān)測；
e) 渦輪分子泵電源一臺、機械泵控制電源一臺以及真空測量計（一低一高）一臺；
f) 樣品臺以及其擋板控制電源一臺；
g) 真空腔體內(nèi)烘烤系統(tǒng)控制電源一臺；
h) PLC控制器（10寸彩色觸摸屏等）；
i) 總控制電源以及其它輔助控制器。
