該設(shè)備是一款帶有預(yù)熱系統(tǒng)的滑動(dòng)PECVD系統(tǒng)。該系統(tǒng)包含等離子射頻電源，預(yù)熱爐，滑動(dòng)式管式爐，4通道質(zhì)量流量供氣系統(tǒng)和旋片泵組成。可用于生長(zhǎng)納米或CVD方法來(lái)制作各種薄膜。
產(chǎn)品用途：
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。 該系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于沉積高質(zhì)量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜和炭納米管（CNT）、石墨烯材料等。是應(yīng)用于生長(zhǎng)納米線或用CVD方法來(lái)制作各種薄膜的一款新的探索工具。
技術(shù)參數(shù)：
| 產(chǎn)品名稱(chēng) | 帶預(yù)熱系統(tǒng)滑動(dòng)式PECVD設(shè)備 |
| 滑軌管式爐部分 | |
| 產(chǎn)品型號(hào) | PT-T1200-S06LC |
| 爐管尺寸 | 60*長(zhǎng)度1600mm 可選其他直徑Φ50，80，100，120，150mm |
| 爐管材質(zhì) | 石英管 |
| 加熱區(qū) | 雙溫區(qū)，每個(gè)溫區(qū)長(zhǎng)度200mm |
| 工作溫度 | 1100℃ |
| 溫度 | 1200℃ |
| 溫控方式 | K型熱電偶 |
| 控制方式 | 觸屏控制 |
| 控溫精度 | ±1℃ |
| 溫控保護(hù) | 具有超溫和斷偶保護(hù)功能 |
| 升溫速率 | 0-20ºC/min可調(diào) ，建議10ºC/min |
| 加熱元件 | 含鉬電阻絲 |
| 工作電壓 | AC 220V 單相 50HZ （電路電壓用戶(hù)可選擇定制） |
| 加熱功率 | 3KW |
| 爐膛材料 | 氧化鋁多晶纖維 |
| 爐體結(jié)構(gòu) | 爐體帶滑軌，可實(shí)現(xiàn)快速升溫和降溫 |
| 法蘭接頭 | 標(biāo)配配有兩個(gè)不銹鋼真空法蘭，已安裝機(jī)械壓力表和不銹鋼截止閥 |
| 密封系統(tǒng) | 該爐爐管與法蘭之間采用硅膠O型圈擠壓密封、撤卸方便、可重復(fù)撤卸，氣密性好。 |
| 預(yù)熱爐 | |
| 主要參數(shù) | 溫度1100度 ，多段程序控溫，可將固體和液體原料放在預(yù)熱爐中，氣化后與氣體原料相混合 |
| 真空系統(tǒng)部分 | |
| 主要參數(shù) | 采用機(jī)械，可實(shí)現(xiàn)爐管內(nèi)的真空 |
| 氣路系統(tǒng)部分 | |
| 名稱(chēng) | 四路質(zhì)量流量計(jì)（量程可選） |
| 等離子電源部分 | |
| 功率范圍 | 0-500W（連續(xù)可調(diào)） |
| 售后服務(wù) | 質(zhì)保一年，終身保修（耗材類(lèi)：高溫密封圈、爐管、加熱元件等及人為損壞不屬于質(zhì)保范圍） |
| 更多規(guī)格可根據(jù)客戶(hù)需求定制 | |
