低溫等離子除臭設(shè)備采用   高臭氧UV紫外線光束、氧化反應(yīng)催化劑、   離子發(fā)生裝置的組合工藝來降解廢氣，改變惡臭、刺激型氣體如：氨、胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類、苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使或無機高分子惡臭化合物分子鏈，通過   紫外線光束照射、催化劑的氧化反應(yīng)、正氧離子的氧化反應(yīng)，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

低溫等離子除臭設(shè)備工作原理：

利用   的   高臭氧UV紫外線光束照射氣體及空氣中的氧分子，裂解氣體的分子鍵，并分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結(jié)合成小分子或低害的化合物，如CO2、H2O等。從而達(dá)到凈化氣體的效果。凈化能力可達(dá)。

反應(yīng)工程式：

1、UV+高分子物→低分子物

2、UV+空氣(O2)→O3

3、低分子物+O3→CO2+H2O+N2

低溫等離子除臭設(shè)備功能特點：

低溫等離子除臭設(shè)備具有一次性凈化率高，能同時凈化多種污染物，性能采用開關(guān)，電源，電路三重自動保護(hù)，設(shè)備體積小，結(jié)構(gòu)緊湊，工藝成熟。設(shè)備投資少，運行成本低。   穩(wěn)定，維護(hù)方便，使用壽命長。凈化，無二次污染。

低溫等離子除臭設(shè)備性能優(yōu)勢：

（1）   除惡臭：能   去除揮發(fā)性物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭可達(dá)以上，脫臭效果超過   1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)（GB14554-93）和1996年頒布的《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB16297-1996)。

（2）無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動力，使惡臭/工業(yè)廢氣通過本設(shè)備進(jìn)行分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。

（3）適應(yīng)性強：UV   光解凈化器可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同工業(yè)廢氣物質(zhì)的脫臭、凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定。

（4）運行成本低：UV   光解凈化器無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，設(shè)備風(fēng)阻低＜50pa，可節(jié)約大量排風(fēng)動力能耗。

（5）無需預(yù)處理：氣體無需進(jìn)行的預(yù)處理，如加溫、加濕等，設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃－95℃之間，濕度在30%－、PH值在2-13之間均可正常工作。

（6）設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等條件，設(shè)備占地面積＜1.2平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。

（7）   材料制造：、性能高，設(shè)備性能   穩(wěn)定，采用不銹鋼材質(zhì)，設(shè)備使用壽命在十五年以上。

（8）環(huán)保產(chǎn)品：采用   上技術(shù)理念，通過專家及我公司工程技術(shù)人員長期反復(fù)的試驗，研制出的，具有   自主知識產(chǎn)權(quán)的環(huán)保凈化產(chǎn)品可   分解工業(yè)廢氣中物質(zhì)，并能達(dá)到   的脫臭、凈化效果，經(jīng)分解后的工業(yè)廢氣，可   達(dá)到化排放，不產(chǎn)生二次污染，同時達(dá)到   的作用。

低溫等離子除臭設(shè)備技術(shù)理論支持：

低溫等離子除臭設(shè)備采用的大功率   紫外線放電管，屬低壓水銀放電管，發(fā)出的紫外線波長主要為170nm及184.9nm（目前正在150nm到184.9nm波長系列產(chǎn)品），光子能量分別為742KJ/mol和647KJ/mol。要裂解切斷污染物質(zhì)分子的分子鍵，就要使用發(fā)出比污染物質(zhì)分子的結(jié)合能強的光子能。