日本sanmei納米壓印設(shè)備ImpFlex Essential
低價(jià)UV納米壓印設(shè)備ImpFlex Essential
納米壓印光刻作為下一代微細(xì)加工技術(shù)受到關(guān)注，它 比傳統(tǒng)光刻具有更高的小型化、更低的成本和更高的產(chǎn)量。
該設(shè)備是在型號 ImpFlex 基礎(chǔ)上*降低成本的低價(jià)型號。
以低廉的價(jià)格實(shí)現(xiàn)低殘膜和均勻膜厚的壓印引擎，繼承自上層。
1. 搭載ImpFlex通用的壓印引擎，殘膜少，膜厚均勻性高！
2. *降低成本，實(shí)現(xiàn)低價(jià)！
3.支持消泡氣工藝！
4.兼容各種模具！
5. 豐富的選項(xiàng)可以升級！
日本sanmei納米壓印設(shè)備ImpFlex Essential
納米壓印光刻作為下一代微細(xì)加工技術(shù)受到關(guān)注，它 比傳統(tǒng)光刻具有更高的小型化、更低的成本和更高的產(chǎn)量。
該設(shè)備是在型號 ImpFlex 基礎(chǔ)上*降低成本的低價(jià)型號。
以低廉的價(jià)格實(shí)現(xiàn)低殘膜和均勻膜厚的壓印引擎，繼承自上層。
1. 搭載ImpFlex通用的壓印引擎，殘膜少，膜厚均勻性高！
2. *降低成本，實(shí)現(xiàn)低價(jià)！
3.支持消泡氣工藝！
4.兼容各種模具！
5. 豐富的選項(xiàng)可以升級！
特征
1.實(shí)現(xiàn)高精度結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移
具有*并聯(lián)機(jī)構(gòu)的“軟載物臺”實(shí)現(xiàn)了精細(xì)的轉(zhuǎn)印操作，可最大限度地減少轉(zhuǎn)印缺陷和納米級圖案形成。此外，新開發(fā)的 LED 光源可實(shí)現(xiàn)均勻的紫外線照射，并實(shí)現(xiàn)低邊緣粗糙度。
2.支持消泡氣工藝
該設(shè)備與消泡氣體工藝兼容（可選）。
即使在大氣印記中，氣泡消除氣體工藝也可以抑制氣泡缺陷的發(fā)生。
即使在大氣印記中，氣泡消除氣體工藝也可以抑制氣泡缺陷的發(fā)生。
3.兼容各種模具
模具尺寸 □ 可以從 10 mm 轉(zhuǎn)移到最大 90 mm。
除石英外，還可以選擇使用其他材料，例如電鑄鎳。
除石英外，還可以選擇使用其他材料，例如電鑄鎳。
