世界各地的發(fā)電廠都開始采用Ionpure CEDI來取代混床生產(chǎn)去離子水。
為什么發(fā)電廠都用CEDI代替混床離子交換設(shè)備？
1. 無需化學(xué)藥劑再生。在要求減少化學(xué)品和廢水排放的同時(shí)，環(huán)保、健康和安全規(guī)范變得日益嚴(yán)格。
2. 連續(xù)生產(chǎn) - CEDI系統(tǒng)不需要停機(jī)再生或更換（如果使用替換型去離子設(shè)備的話）。
3. 節(jié)省空間 - CEDI系統(tǒng)通常比IX系統(tǒng)需要的空間小，后者同時(shí)還需要一套中和系統(tǒng)。
4. 運(yùn)營成本 - CEDI系統(tǒng)的運(yùn)營成本只有電。
5. 初期投資 - 如果把IX系統(tǒng)所有配套的儲水罐、化學(xué)再生系統(tǒng)和中和系統(tǒng)都包括在內(nèi)，CEDI 系統(tǒng)的成本比IX系統(tǒng)低。
要求的水質(zhì)和CEDI實(shí)際產(chǎn)水水質(zhì)？
| 水質(zhì)要求 | Ionpure CEDI |
| 電導(dǎo) < 0.1µS/cm | 10-16MΩ.cm |
| 停工時(shí)間最少 | 連續(xù)生產(chǎn)，無需停機(jī)再生 |
| 硅 <10ppb | 95+%硅去除率 |
| 鈉<5ppb | 95+%鈉去除率 |
| 低運(yùn)行成本 | 無需化學(xué)藥劑，只需要電力 |
| 安全，盡量避免使用化學(xué)藥劑 | 無需化學(xué)藥劑，只需要電力 |
| 低維護(hù)量 | 相比混床 ，維護(hù)量極少 |
在電力行業(yè)的水生產(chǎn)系統(tǒng)中，CEDI通常位于哪里？
典型的高壓鍋爐用CEDI系統(tǒng)
在上圖中，CEDI系統(tǒng)通常作為主要拋光設(shè)備。有時(shí)候出于備用的目的，在CEDI后面會設(shè)置一個(gè)混床以保證在CEDI系統(tǒng)維護(hù)期間系統(tǒng)仍能生產(chǎn)除鹽水。在CEDI正常工作時(shí)，流經(jīng)混床的離子濃度極低，所以混床的更換頻率非常低。
