UV光催化除臭設(shè)備

一、設(shè)備簡介：
    UV光催化除臭設(shè)備是一種能高效快速去除揮發(fā)性有機物、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇、苯等各種惡臭氣體的環(huán)保設(shè)備。 利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體和TiO2光催化，催化裂解惡臭氣體分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。。

二、工作原理：

    利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體和TiO2光催化，催化裂解惡臭氣體如：氮、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

利用高能臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧。UV+O2→O一+O*（活性氧）O+O2→O3（臭氧），臭氧對有機物具有的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有的清除效果。
    利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應(yīng)，*達到脫臭及殺滅細菌的目的。

三、產(chǎn)品特點：

* 凈化效率高，可達99%以上

* 無需添加任何物質(zhì)，無二次污染

* 設(shè)備能耗低，設(shè)備風(fēng)阻低，無需專人管理和日常維護，運行成本低

* 適應(yīng)范圍廣,無預(yù)處理和環(huán)境要求

* 設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小：

* 運行持久，安全穩(wěn)定可靠

四、適應(yīng)范圍：
廣泛用于煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運站等惡臭氣體的脫臭凈化處理。