上海物光顆粒圖像分析儀WKL-702

工作原理：WKL-702顆粒圖像分析儀將傳統(tǒng)的顯微測量方法與現(xiàn)代的圖像技術(shù)相結(jié)合，是一種采用圖像法進行顆粒形貌分析和粒度測量的顆粒分析系統(tǒng)，由光學顯微鏡、數(shù)字CCD攝像機和顆粒圖像處理分析軟件組成。該系統(tǒng)通過專用的數(shù)字攝像機將顯微鏡的顆粒圖像拍攝下來傳輸給電腦，通過專用的顆粒圖像處理分析軟件對圖像進行處理分析，具有直觀、形象、準確和測試范圍寬等特點。可以觀察顆粒形貌，也可得到粒度分布等分析結(jié)果。

技術(shù)參數(shù)
測量范圍：1～3000微米
光學放大倍數(shù)：1600倍
分辨率：0.1微米/像素
準確性誤差：< ±3%(國家標準物質(zhì))
重復性偏差：< ±3%(國家標準物質(zhì))

數(shù)據(jù)輸出：周長分布、面積分布、長徑分布、短徑分布、周長相當徑分布、面積相當徑分布、Feret徑分布、長短徑比、中間（D50）、有效粒徑（D10）、限定粒徑（D60、D30、D97）、個數(shù)長度平均徑、個數(shù)面積平均徑、個數(shù)體積平均徑、長度面積平均徑、長度體積平均徑、面積體積平均徑、不均勻系數(shù)、曲率系數(shù)。
配置參數(shù)（配置1國產(chǎn)顯微鏡）（配置2進口顯微鏡）
三目生物顯微鏡:平場目鏡：10×、16×
消色差物鏡：4×、10×、40×、100× （油）
總放大倍數(shù)：40×-1600×
攝像機：300萬像素數(shù)字CCD（標準C接頭）

應(yīng)用范圍
適用于磨料、涂料、非金屬礦、化學試劑、粉塵、填料等各種粉末顆粒的粒度測量、形貌觀察和分析。
軟件功能及報告輸出格式
1、可以對圖像進行多項處理:如:影像增強、圖像疊加、局部提取、定向放大、對比度、亮度調(diào)節(jié)等幾十種功能。
2、具有圓度、曲線、周長、面積、直徑等幾十種幾何參數(shù)的基本測量。
3、可直接按顆粒粒徑的粒徑面積、形狀等多類參數(shù)，以線性或非線性統(tǒng)計方式繪出分布圖