惡臭廢氣處理設(shè)備的常見的方法有生物分解法、活性碳吸附法、等離子法、植物噴灑液除臭法等。以下是幾種目前國內(nèi)外最常見惡臭氣體處理的除臭設(shè)備 1、等離子除臭設(shè)備 等離子法是利用高壓電極發(fā)射離子及電子，破壞惡臭分子結(jié)構(gòu)的原理，轟擊廢氣中惡臭分子，從而裂解惡臭分子，對低濃度的惡臭氣體凈化效果明顯，在正常運行情況下可達到80%以上，能處理多種臭氣充分組成的混合氣體，不受濕度的影響，且無二次污染；但用電量大，且還需要清灰，運行維護成本高，對高濃度易燃易爆氣體極易引起爆炸。 2、植物噴灑液除臭設(shè)備 植物噴灑液除臭法是通過向產(chǎn)生惡臭氣體的空間噴灑植物提取液將惡臭氣體進行中和、吸收，達到脫臭的目的，除臭效果低濃度可達到50%，不同的臭氣選擇不同的噴灑液，需經(jīng)常添加植物噴灑液，且需維護設(shè)備，運行維護費用高，易造成二次污染。 3、 微生物分解除臭設(shè)備 生物分解法是利用循環(huán)水流將惡臭氣體中污染物質(zhì)容于水中，再由水中培養(yǎng)床培養(yǎng)出微生物，將水中的污染物質(zhì)降解為低害物質(zhì)，除臭效率可達70%，但受微生物活性影響，培養(yǎng)出來的微生物只能處理一種或幾種相近性質(zhì)的氣體，為提高處理效率和穩(wěn)定運行，必須頻繁添加藥劑、控制PH值、溫度等，這樣運行費用相對比較高，投入人工也比較多，而且生物一旦死亡將需要較長時間重新培養(yǎng)。（對比分析表詳見附件1） 3、 活性碳吸附除臭設(shè)備 活性碳吸附法是利用活性炭內(nèi)部空隙結(jié)構(gòu)發(fā)達，有巨大比表面積原理來吸附通過活性炭池的惡臭氣體分子，初期處理效率可達65%，但極易飽和，通常數(shù)日即失效，需要經(jīng)常更換，并需要尋找廢棄活性碳的處理辦法，運行維護成本很高，適用于低濃度、大風(fēng)量氣體，對醇類、脂肪類效果較明顯，但濕度大的廢氣效果不明顯，且容易造成環(huán)境二次污染。 4、 紫外光冷燃燒除臭設(shè)備 紫外光冷燃燒除臭設(shè)備是采用高能UV紫外線，在光解凈化設(shè)備內(nèi)，裂解氧化惡臭物質(zhì)分子鏈，改變物質(zhì)結(jié)構(gòu)，將高分子污染物質(zhì)裂解、氧化為低分子無害物質(zhì)，其脫臭效率可99%，脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭物質(zhì)排放標(biāo)準(zhǔn)（GB14554-93），能處理氨、硫化氫、甲硫醇、甲硫醚、苯、苯乙烯、二硫化碳、三甲胺、二甲等高濃度混合氣體，設(shè)備壽命在十年以上，該凈化技術(shù)可靠且非常穩(wěn)定，凈化設(shè)備無須日常維護，只需接通電源即可正常使用，且運行成本低，無二次污染。紫外光冷燃燒除臭設(shè)備適用范圍：食品加工廠、肉類加工廠、屠宰場、家禽飼料場、造紙廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運站、糞便處理等有機和無機物惡臭氣體的脫臭凈化處理。煉油廠、橡膠廠、皮革廠、印刷廠、化工廠、中西藥廠、金屬鑄造廠、塑料再生廠、噴涂溶劑等有機和無機物惡臭氣體的脫臭凈化處理。
惡臭廢氣處理設(shè)備的工藝流程
廢氣通過引風(fēng)機抽出，進入水觸媒式光分解臭氣處理設(shè)備，在經(jīng)過1.2s的光分解后，再進入廠方原有的噴淋塔內(nèi)，在噴淋塔內(nèi)完成裂解反應(yīng)過程，再達標(biāo)排放、
（1）：惡臭氣體凈化處理的工藝圖：
集氣罩-----抽出管道-----風(fēng)機-----水觸媒光催化設(shè)備------反應(yīng)管道-----排放口
（2）：惡臭氣體凈化處理的工藝流程圖：
技術(shù)原理
QL-GCH-2000水觸媒式臭氣處理設(shè)備技術(shù)原理：
(1)、本產(chǎn)品利用特制的高能高臭氧雙頻紫外線光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體如：丙酮、氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子無臭無害化合物、CO2和H2O。
(2)、臭氧產(chǎn)生
利用高能紫外線光束，使空氣中產(chǎn)生大量的自由電子，這些電子大部分能被氧氣所獲得，形成負氧離子（O3－），負氧離子不穩(wěn)定，很容易失去一個電子而變成活性氧（臭氧），臭氧是高級氧化劑，既可以氧化分解有機物和無機物，對主要臭氣氨、三甲胺、硫化氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳、苯乙烯等，都可以與臭氧發(fā)生反應(yīng)，在臭氧的作用下，這些惡臭氣體由大分子物質(zhì)被分解為小分子物質(zhì)，直至礦化。
臭氧產(chǎn)生過程如下式所示：
2、·OH (羥基自由基)的產(chǎn)生：
本設(shè)備同時可利用紫外光束與納米級TiO2的作用產(chǎn)生·OH，溶于水中的臭氧也可產(chǎn)生·OH。
·OH(羥基自由基)是*活性的氧化劑之一，氧化能力明顯高于普通氧化劑，與惡臭氣體反應(yīng)，礦化程度更高。幾種氧化劑的氧化電位比較見下表：
氧化劑 | 反應(yīng) | 氧化電位/V |
·OH | ·OH+H++e-→H2O | 3.06 |
O3 | O3+2H++2e-→O2+H2O | 2.07 |
H2O2 | H2O2+2H++2e-→2H2O | 1.77 |
HClO | HClO+H++2e-→Cl-+H2O | 1.63 |
Cl2 | Cl2+2e-→2Cl- | 1.36 |
(3)、光照分解
惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出室外。
(4). TiO2光催化機理
TiO2光催化材料作為一種N型半導(dǎo)體催化劑，它的禁帶寬度為3.2EV。當(dāng)它收到波長等于或小于387.5NM的光照射時，價帶的電子就會受到激發(fā)進入導(dǎo)帶，同時會在價帶上形成對應(yīng)的空穴，即產(chǎn)生光生電子-空穴對。光生電子(e-)具有很強的氧化還原能力，它不僅可以將吸附在半導(dǎo)體顆粒表面的有機物活化氧化，還能使半導(dǎo)體表面的電子受體被還原。而受激發(fā)產(chǎn)生的光生空穴(h+)則是良好的氧化劑，一般會通過與化學(xué)吸附水（H2O）或表面羥基（OH-）反應(yīng)生成具有很強氧化能力的羥基自由基（•OH）。研究表明羥基自由基幾乎能夠氧化所有有機物并使之礦化設(shè)備所產(chǎn)生紫外線光束與納米級TiO2的作用產(chǎn)生·OH。
(5)、光照分解原理
利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應(yīng)，*達到脫臭及殺滅細菌的目的。設(shè)備內(nèi)分解氧化過程在1-2秒內(nèi)完成。為達到最佳凈化效果，經(jīng)過JF-2000觸媒式光分解臭氣處理設(shè)備處理后需有6秒反應(yīng)時間。
