氣體純化器能夠有效去除氣體原料在生產(chǎn)過程中或是在供應過程中產(chǎn)生的各類金屬雜質(zhì)。由于此類金屬雜質(zhì)無法通過過濾器清除，因此氣體純化器可以同時去除腐蝕性氣體中的水分和金屬雜質(zhì)（揮發(fā)與非揮發(fā)）的純化媒介。
可純化以下氣體：
HCl
HBr
SiH 2 Cl 2
SiHCl 3
BCl 3
Cl 2
SiCl 4
可純化的氣體
- *
- 溴化氫
- 二氯二氫硅（DCS）*
- 三氯氫硅（TCS）*
- 三氯化硼*
- 四氯化硅*
- 一氧化碳
- 一氧化氮
- *
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