奧豪斯HB2DGHL數(shù)顯帶加熱蓋雙模塊干式金屬浴
產(chǎn)品介紹：
多用途干式金屬浴適用于對溫度穩(wěn)定性有嚴(yán)格要求的應(yīng)用。試管與模塊壁緊密接觸可 以實現(xiàn)大的熱量保留，實現(xiàn)高效加熱。高功率、固定溫度，數(shù)顯控制型號提供 的溫度穩(wěn)定性和*性，適合需要可重復(fù)結(jié)果的應(yīng)用。設(shè)備可選40多個恒溫模塊。
• 提供的溫度穩(wěn)定性和*性
• 帶加熱蓋型號可避免樣品出現(xiàn)冷凝現(xiàn)象并保持樣品體積不變
• 溫度可校準(zhǔn)，允許用戶使用外部設(shè)備校準(zhǔn)溫度
產(chǎn)品特點
奧豪斯帶蓋數(shù)顯干式金屬浴適用于需要可重復(fù)結(jié)果和出色溫度穩(wěn)定性的 應(yīng)用。這些金屬浴極其適合于恒溫培養(yǎng)、酶反應(yīng)、免疫分析、核酸變 性和諸多其他實驗流程。帶有鎖定旋鈕的內(nèi)置托桿支座，可容納外置 溫度探頭組件。外置溫度探頭組件可檢測模塊或樣品實際溫度。金屬 浴可容納一個微孔板塊或兩個單獨的可換模塊，以適用于不同尺寸試 管、0.2 mL微型管到高度達(dá)85 mm的試管或燒瓶。每個模塊上帶有一個 用于測量模塊溫度的溫度計槽。試管和模塊壁緊密接觸實現(xiàn)高效加熱， 確保出色的溫度均勻性。加熱蓋有助于調(diào)節(jié)溫度、減少樣品出現(xiàn)冷凝 的現(xiàn)象。金屬浴需要使用奧豪斯加熱模塊運行。
操作特點：
微處理控制器：帶有外置RTD探頭的PID溫度控制裝置，使溫度穩(wěn)定性 的變化小于± 0.1°C，溫度均勻性變化也小于± 0.1°C，加熱快速、升溫準(zhǔn) 確。允許用戶以± 0.1°C增量調(diào)節(jié)溫度。
LED顯示屏：觸摸式操作面板帶易于讀數(shù)、顯示溫度和時間的LED 屏。設(shè)備始終提供可重復(fù)和準(zhǔn)確的結(jié)果，在實驗室工作臺即可輕松查 看。LED屏顯示設(shè)定值與實際溫度。定時器顯示已用時間，也可將其編 程為用戶定義的限值，當(dāng)時間達(dá)到零時設(shè)備自動關(guān)閉。顯示屏將顯示上 一次使用的設(shè)置，即使斷電后也可顯示。
溫度校準(zhǔn)模式：允許用戶使用外部設(shè)備校準(zhǔn)溫度。
安全保障：
高溫指示器：當(dāng)溫度超過40°C時高溫指示燈自動點亮。
過溫保護(hù)：當(dāng)超過設(shè)定溫度10°C時，設(shè)備將自動停止加熱。
警報器：在定時模式下，當(dāng)時間達(dá)到零值或設(shè)備達(dá)到設(shè)定溫度時，警報 器將發(fā)出聲音警報。
注意：為了避免造成觸電危險，請勿用水或其他液體加注槽或加熱模塊 開口。設(shè)備可用于干浴器/恒溫培養(yǎng)箱。
技術(shù)參數(shù):
| 型號 | HB2DGHL |
| 控制方式 | 數(shù)顯控制 |
| 溫度范圍 | 高于環(huán)境5℃~100℃ |
| 穩(wěn)定性 | ± 0.2°C |
| *性 | 37°C時為± 0.2°C |
| 升溫時間 | 50 min |
| 校準(zhǔn) | 溫度校準(zhǔn) |
| 尺寸 (高x長x寬) | 17.8 cm x 39.1 cm x 20.3 cm |
| 凈重 | 3.1 kg |
| 模塊數(shù)目 | 2 |
| 溫度過沖保護(hù) | 高于設(shè)定值10℃ |
| 電源 (2) | 230V，1.65A，50/60Hz |
| 能耗 | 400 W |
| CE; TUV | |
| 工作環(huán)境 | 18°C – 33°C, 20% – 80%RH, 非冷凝 |
工作條件： 設(shè)備可在溫度18-33°C，相對濕度20%-80%的非冷凝條件下運行。
應(yīng)用： 等溫孵育、酶反應(yīng)、免疫測定、核酸變性及其他實驗室流程。
訂貨信息： 標(biāo)配一個可拆3腳插頭，選件溫度探頭詳見下面彩頁，模塊單獨銷售。
訂貨信息：
| 型號 | 產(chǎn)品描述 |
| HB1AL | 模擬控制單模塊干式金屬浴 |
| HB2AL | 模擬控制雙模塊干式金屬浴 |
| HB4AL | 模擬控制四模塊干式金屬浴 |
| HB6AL | 模擬控制六模塊干式金屬浴 |
奧豪斯HB2DGHL數(shù)顯帶加熱蓋雙模塊干式金屬浴
