防爆氧分析儀多應用于存在化學反應的生產(chǎn)過程，例如氨氣合成流程中，在使用溫度儀表和壓力儀表控制反應環(huán)境以外，還需要使用氣體分析儀表來分析進氣的化學成分，控制氫氣和氨氣之間的合理比例，這樣才能大限度的提高氨氣合成率，而獲得較高的生產(chǎn)效率。
一臺氣體分析儀或一套氣體分析系統(tǒng)相當于一套完整的化工工藝設備，因此，氣體分析儀器系統(tǒng)工作過程就是在實現(xiàn)一系列的化工過程。若想通過氣體分析得到準確數(shù)據(jù)，就必須了解這一系列化工過程中各階段的情況及變化，認真研究并掌握其中的規(guī)律，只有這樣才能達到準確測定的目的。
防爆氧分析儀DLAS技術本質上是一種光譜吸收技術，通過分析激光被氣體的選擇性吸收來獲得氣體的濃度。它與傳統(tǒng)紅外光譜吸收技術的不同之處在于，半導體激光光譜寬度遠小于氣體吸收譜線的展寬。因此，DLAS技術是一種高分辨率的光譜吸收技術，半導體激光穿過被測氣體的光強衰減可用朗伯-比爾（Lambert-Beer）定律表述式得出，關系式表明氣體濃度越高，對光的衰減也越大。因此，可通過測量氣體對激光的衰減來測量氣體的濃度。
（1）儀器線性關系的驗證。首先，為確保儀器的正常運行，分析儀器作為計量儀器的一種，必須每年經(jīng)過*按照國家制訂的規(guī)程進行檢測，方能許可使用。同時，每年還需要用系列標準氣體檢查儀器在整個線性范圍內(nèi)的線性關系是否保持正常的狀態(tài)。否則盲目相信分析儀器（即使是進口儀器）的完好程度肯定會使錯誤的數(shù)據(jù)導致生產(chǎn)管理及質量管理上的失誤。
（2）誤差分析。在分析儀器的應用過程中，對于每一次測定結果的數(shù)據(jù)，必須作出誤差分析，以確定數(shù)據(jù)分析的真實性、可靠性和可信程度。一個合格的分析工作者是不會也不應該隨隨便便地把每次分析測定的結果上報或公布的。一般是在測定結果得出后，經(jīng)過誤差分析，在確定分析數(shù)據(jù)的誤差總和小于規(guī)定的允許誤差時，才將這一個（或一組）數(shù)據(jù)視為正確測定結果上報或公布。否則，不準確的數(shù)據(jù)會給生產(chǎn)管理者帶來嚴重的不良后果。
（3）定量分析常用的儀器校正。氣體分析儀作為一種定量分析儀器，在做定量分析前必須使用標準氣進行校正（或標定）。標準氣一般是從國家*或合法工廠購買的，在特殊情況下，也可以自行配置（但要具有配置標準氣的資格和能力以及相關的設備）。標準氣保質期為一年，在使用標準氣校正分析儀器時，還必須深入了解正常手續(xù)和使用規(guī)律。如果購買和使用不合乎要求的標準氣，會導致分析數(shù)據(jù)的*偏差。如果對標準氣的使用要求不甚了解，也會因得不到準確數(shù)據(jù)結果，給空分生產(chǎn)帶來麻煩。
