實驗室廢氣處理設(shè)備廢氣經(jīng)阻火器過濾后，通過主進閥、旁通閥的同步反向切換調(diào)節(jié)進入熱交換器，熱交換器的熱氣升高一定溫度后進入預熱室、經(jīng)過預熱室的加熱使廢氣升溫到催化起燃溫度（250度）然后進入催化反應床，在催化劑的活性作用下，有機廢氣進行氧化反應生成無害的水和二氧化碳，并放出一定的熱量。反應后的高溫氣體再次進入熱交換器，經(jīng)換熱后，后以較低的溫度經(jīng)引風機排入大氣。催化燃燒是借助催化劑在低溫下（200－400度）實現(xiàn)對有機物的*氧化，因此，操作簡單、安全、凈化效率高，在有機廢氣特別是回收價值大的有機廢氣凈化等領(lǐng)域應用廣泛。

實驗室廢氣處理設(shè)備固體表面吸附了吸附質(zhì)后，一部被吸附的吸附質(zhì)可從吸附劑表面脫離，此現(xiàn)附。而當吸附進行一段時間后，由于表面吸附質(zhì)的濃集，使其吸附能力明顯下降而吸附凈化的要求，此時需要采用一定的措施使吸附劑上已吸附的吸附質(zhì)脫附，以協(xié)的吸附能力，這個過程稱為吸附劑的再生。因此在實際吸附工程中，正是利用吸附一再生一再吸附的循環(huán)過程，達到除去廢氣中污染物質(zhì)并回收廢氣中有用組分。

常見的產(chǎn)生等離子體的方法是氣體放電，所謂氣體放電是指通過某種機制使一電子從氣體原子或分子中電離出來，形成的氣體媒質(zhì)稱為電離氣體，如果電離氣由外電場產(chǎn)生并形成傳導電流，這種現(xiàn)象稱為氣體放電。根據(jù)放電產(chǎn)生的機理、氣體的壓j源性質(zhì)以及電極的幾何形狀、氣體放電等離子體主要分為以下幾種形式：①輝光放電；③介質(zhì)阻擋放電；④射頻放電；⑤微波放電。無論哪一種形式產(chǎn)生的等離子體，都需要高壓放電。容易打火產(chǎn)生危險。由于對諸如氣態(tài)污染物的治理，一般要求在常壓下進行。

技術(shù)則需要在*的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫。

從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑。常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。