First-Nano System GmbH
2003年 創(chuàng)立于德國德累斯頓工業(yè)大學(xué)（Dresden University of Technology）
2008年 香港成立德國韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司
2015年 上海成立德國韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司中國代表處，負(fù)責(zé)中國區(qū)業(yè)務(wù)
2018年 深圳正式成立韋氏納米系統(tǒng)（深圳）有限公司，更好的為中國南方區(qū)市場
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產(chǎn)品范圍：
薄膜沉積/Thin Film Deposition
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液
杜邦刻蝕殘留物去除劑
特點(diǎn)：
制定佳的金屬堆棧完整性 ;
“改進(jìn)”寬窗口處理能力;
強(qiáng)化蝕刻殘余物去除;
清洗的掩膜減少化學(xué)殘留;
超大規(guī)模集成電路（ULSI）級規(guī)格*封裝清洗;
工作溫度下蒸發(fā)速率低;
特點(diǎn)：
制定佳的金屬堆棧完整性 ;
“改進(jìn)”寬窗口處理能力;
強(qiáng)化蝕刻殘余物去除;
清洗的掩膜減少化學(xué)殘留;
超大規(guī)模集成電路（ULSI）級規(guī)格*封裝清洗;
工作溫度下蒸發(fā)速率低;
特點(diǎn)：
制定佳的金屬堆棧完整性 ;
“改進(jìn)”寬窗口處理能力;
強(qiáng)化蝕刻殘余物去除;
清洗的掩膜減少化學(xué)殘留;
超大規(guī)模集成電路（ULSI）級規(guī)格*封裝清洗;
工作溫度下蒸發(fā)速率低;
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