DH2006型直流磁控輝光等離子體實驗裝置

裝置與清華大學(xué)物理系聯(lián)合開發(fā)。與直流輝光等離子體實驗裝置相比，加長了放

電管，增加了直流可調(diào)磁場，豐富了實驗內(nèi)容；高斯計特斯拉計

 ◆ 直流可調(diào)磁場：0~500mT;

 ◆ 直流可調(diào)恒流源：0~3A。

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DHPS系列直流濺射等離子體實驗裝置

裝置采用同軸二極濺射結(jié)構(gòu)，靶臺和靶距離可調(diào)節(jié)，濺射基片可進行控溫加熱；

濺射氣壓、濺射氣源流量可調(diào)節(jié)，可研究不同氣壓、氣源流量對薄膜濺射的影響

；反應(yīng)腔體采用石英玻璃管，可直觀地觀察到濺射現(xiàn)象；工作氣體可調(diào)節(jié)更換，

并可多路氣體混合工作。ZHG-600位置發(fā)送器LSDE1600，DH2006型直流磁控輝光等離子體實驗裝置可以完成光學(xué)薄膜材料的制備及其光學(xué)特性的測量、金

屬薄膜的制備等實驗。

主要實驗內(nèi)容：ZHG-600位置發(fā)送器LSDE1600，DH2006型直流磁控輝光等離子體實驗裝置

◆光學(xué)薄膜材料的制備及其光學(xué)特性的測量；

◆金屬薄膜的制備實驗；

◆理解直流濺射原理，掌握直流濺射薄膜材料的工藝方法。

主要技術(shù)特點：

◆濺射靶臺和濺射靶距離可調(diào)節(jié)，研究在不同距離時對薄膜濺射的影響；

◆濺射基片可進行加熱，加熱溫度可控，研究基片溫度對薄膜濺射的影響；

◆濺射氣壓、濺射氣源流量可調(diào)節(jié)，研究不同氣壓、氣源流量對薄膜濺射的影響

◆反應(yīng)腔體采用石英玻璃管，可直觀地觀察到濺射現(xiàn)象；

◆供電電源：AC 220V，50 Hz。高斯計特斯拉計

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